ASML二手現(xiàn)貨DUV光刻機(jī)XT:400L，分辨率350nm，產(chǎn)能230wph。

主要特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)

除了提高生產(chǎn)力之外，XT:400L 還引入了新的選項(xiàng)來(lái)幫助具有高拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)（例如 3D-NAND）和小型 CD 和 CDU（例如邏輯或模擬應(yīng)用中的關(guān)鍵層）的高級(jí)應(yīng)用。

與之前的型號(hào)一樣，XT:400L 是一款雙級(jí)光刻系統(tǒng)，專為批量生產(chǎn) 200 毫米和 300 毫米晶圓而設(shè)計(jì)，分辨率低至 220 納米。

高吞吐量和良率與快速的光罩交換時(shí)間和批次流相結(jié)合，以提供的運(yùn)營(yíng)成本。

01. 生產(chǎn)力

TWINSCAN XT:400L 能夠?qū)崿F(xiàn)每小時(shí) ≥ 230 300 mm 晶圓（使用高分辨率選項(xiàng)時(shí)≥ 220）和每小時(shí) ≥ 250 200 mm 晶圓的吞吐量。借助橋接工具，客戶能夠在不到一周的機(jī)器停機(jī)時(shí)間的情況下轉(zhuǎn)換 200 毫米和 300 毫米之間的晶圓。

02. 光學(xué)

TWINSCAN XT:400L 包含一個(gè)可變的 0.65 NA 365 nm 投影鏡頭，帶有*的鏡頭操縱器和成像增強(qiáng)選項(xiàng)?？蛻艨梢詫?shí)現(xiàn) 350 nm（標(biāo)準(zhǔn)）、280 nm（環(huán)形照明）或 220 nm（環(huán)形照明加高分辨率選項(xiàng)）的生產(chǎn)分辨率。

03. 成像性能

使用 TOP-2，XT:400 能夠?qū)崿F(xiàn) ≤ 20 nm 的改進(jìn)覆蓋，適用于 3D-NAND 階梯曝光等高級(jí)應(yīng)用。擴(kuò)展的調(diào)平范圍允許更好的產(chǎn)品覆蓋和聚焦性能，即使對(duì)于大型拓?fù)淝闆r也是如此。

SMASH 傳感器在使用不透明硬掩模時(shí)，使用兩個(gè)額外的對(duì)準(zhǔn)波長(zhǎng)（近紅外和遠(yuǎn)紅外以及紅色和綠色）實(shí)現(xiàn)更*的標(biāo)記集成。

液位傳感器與 TWINSCAN 調(diào)平方法相結(jié)合，幾乎消除了內(nèi)部芯片和邊緣芯片之間的差異，并確保整個(gè) 300 毫米晶圓的高良率?？蛻艨梢詫?shí)現(xiàn) 350 nm（標(biāo)準(zhǔn)）、280 nm（環(huán)形照明）或 220 nm（環(huán)形照明加高分辨率選項(xiàng)）的生產(chǎn)分辨率。