ASML 二手翻新ARF光刻機(jī)NXT:1470采用193nmARF光源，分辨率57nm，產(chǎn)能300wph。

主要特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)

TWINSCAN NXT:1470 193nm步進(jìn)掃描系統(tǒng)是款基于我們的高生產(chǎn)率、高精度NXT平臺(tái)的“干式”光刻系統(tǒng)。因此，它是個(gè)實(shí)現(xiàn)優(yōu)于 4.5 nm 的產(chǎn)品覆蓋層的干法系統(tǒng)，也是臺(tái)能夠每小時(shí)處理超過 300 個(gè)晶圓的光刻機(jī)。

憑借其出色的覆蓋和吞吐量性能，這款雙級(jí) ArF 光刻工具可幫助芯片制造商降低每次曝光成本，同時(shí)在相同的光刻電池占位面積上多生產(chǎn) 50% 的晶圓。它將使計(jì)劃中的 KrF NXT 系統(tǒng)能夠進(jìn)一步降低芯片生產(chǎn)成本，同時(shí)改進(jìn)匹配的機(jī)器覆蓋以提高產(chǎn)量。

01.生產(chǎn)力

NXT:1470 的 NXT機(jī)身采用新一代晶圓級(jí)模塊，其吞吐量比我們之前的 ArF 系統(tǒng)高出 50%。它得到了一個(gè)持續(xù)的路線圖的支持，以進(jìn)一步提高生產(chǎn)力，幫助制造商繼續(xù)提高大批量芯片生產(chǎn)的成本效益。

02. 光學(xué)

TWINSCAN NXT:1470配備可變數(shù)值孔徑 (0.70 – 0.93) Carl Zeiss Starlith 4X縮小鏡頭。與我們之前的干式 ArF 光刻系統(tǒng)相比，它包括一個(gè)額外的透鏡元件和改進(jìn)的透鏡加熱控制。

03. 成像性能

TWINSCAN NXT:1470 建立在我們版本的 NXT 高通量、高精度系統(tǒng)架構(gòu)之上，具有改進(jìn)的晶圓載物臺(tái)和晶圓處理器。結(jié)合增強(qiáng)的光學(xué)和改進(jìn)的透鏡和光罩加熱控制，它可以實(shí)現(xiàn)低于 4.5 nm 的產(chǎn)品覆蓋 - 同時(shí)每小時(shí)處理超過 300 個(gè)晶圓。

借助偏振照明，NXT:1470 可以達(dá)到低至 57 nm 的生產(chǎn)分辨率。此外，的紫外線水平傳感器可確保對(duì)整個(gè)晶圓進(jìn)行出色的聚焦控制，尤其是邊緣芯片。