主要特點(diǎn)和優(yōu)勢

TWINSCAN NXT:2050i 建立在面向未來的 NXT4 平臺(tái)之上，突破了重疊限制，并為浸沒式光刻系統(tǒng)提供了的生產(chǎn)力。

TWINSCAN NXT:2050i 是的浸沒式光刻系統(tǒng)設(shè)計(jì)與*的鏡頭設(shè)計(jì)相結(jié)合的地方，其數(shù)值孔徑 (NA)為 1.35，是目前半導(dǎo)體行業(yè)中的。

這種步進(jìn)掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙階段工具，專為批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)。

通過將高生產(chǎn)率與的覆蓋性能相結(jié)合，該系統(tǒng)可滿足多種圖案化要求，為在*的邏輯和 DRAM 節(jié)點(diǎn)制造 300 毫米晶圓提供具有成本效益的解決方案。

01. 生產(chǎn)力

TWINSCAN NXT:2050i 正在提高半導(dǎo)體生產(chǎn)力，每小時(shí)能夠生產(chǎn) 295 個(gè)晶圓。與早期的TWINSCAN系統(tǒng)相比，該系統(tǒng)通過減少開銷時(shí)間每天能夠額外交付 400 到 500個(gè)晶圓。重新設(shè)計(jì)的晶圓載物臺(tái)配備更*的電機(jī)，能夠更快地加速并更準(zhǔn)確地執(zhí)行運(yùn)動(dòng)。

TWINSCAN NXT:2050i 采用新型浸入式罩，可減少水分流失，顯著提高缺陷性能。這意味著通過減少減速來提高產(chǎn)品產(chǎn)量和提高生產(chǎn)力。

02. 光學(xué)

該系統(tǒng)采用 1.35 NA 193 nm 折反射投影鏡頭，可實(shí)現(xiàn)低至 40 nm（C-quad）和 38 nm（偶極子）的生產(chǎn)分辨率，以及支持全 26x33mm 視場尺寸、4X 縮小和標(biāo)線的在線設(shè)計(jì)與現(xiàn)有設(shè)計(jì)的兼容性。

該系統(tǒng)的鏡頭元件配備了用于校正光學(xué)像差的操縱器，從而實(shí)現(xiàn)低 k 1的生產(chǎn)率成像。鏡頭指紋現(xiàn)在在高密度方面進(jìn)行了優(yōu)化，可以與 EUV 匹配。

平行 ILIAS (PARIS) 傳感器允許平行測量整個(gè)投影狹縫的光學(xué)像差，從而實(shí)現(xiàn)更準(zhǔn)確的對準(zhǔn)、增強(qiáng)的標(biāo)線加熱校正和動(dòng)態(tài)鏡頭加熱校正。TWINSCAN NXT:2050i 使用的 PARIS 傳感器對傳感器安裝進(jìn)行了改進(jìn)，從而提高了定位再現(xiàn)性。

03. 成像性能

該系統(tǒng)通過我們的極紫外 (EUV) NXE 系統(tǒng)提供了改進(jìn)的交叉匹配性能。它可以在產(chǎn)品覆蓋上實(shí)現(xiàn) 2.5 nm 的交叉匹配。標(biāo)線平臺(tái)配備了增強(qiáng)型夾具，不僅提高了系統(tǒng)的可靠性，而且還提高了覆蓋層。ORION對準(zhǔn)傳感器提供更高的對準(zhǔn)測量精度和增強(qiáng)的過程穩(wěn)健性，未來可升級到 12 色模式。

液位傳感器 (UVLS-2) 使用紫外光來限度地降低系統(tǒng)在晶圓表面在線映射期間對工藝堆棧變化的敏感性。該傳感器具有更高的測量密度，可以在晶圓邊緣實(shí)現(xiàn)更高的調(diào)平精度。