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公司介紹主營產(chǎn)品

上海德竹芯源科技有限公司是一家專注于功率器件、光電器件、射頻器件、量子器件、MEMS傳感器領(lǐng)域的設(shè)備銷售、系統(tǒng)集成、設(shè)備國產(chǎn)化的公司。主要為高校、研究所、中試量產(chǎn)線及晶圓FAB廠提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備、檢測設(shè)備、封裝設(shè)備、測試設(shè)備。目前公司已成為國內(nèi)少數(shù)幾家專業(yè)提供半導(dǎo)體工藝、檢測、封裝、測試整體解決方案的企業(yè)。公司主要成員為復(fù)旦大學(xué)、上海微系統(tǒng)所等半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè)博士，擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)過硬的團隊。能夠出色地完成售前售中、售后的服務(wù)。目前公司已與眾多國際半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等)，致力于根據(jù)用戶的科研方向和量產(chǎn)的器件類別提供相應(yīng)的全套設(shè)備選型和工藝整體解決方案。

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產(chǎn)品簡介在線詢價

Depolab 200 是 SENTECH 開發(fā)的高性價比等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備，它結(jié)合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設(shè)計和直接載片的成本效益設(shè)計的優(yōu)點。從 2″ 至 8″ 晶片和樣品的標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用開始，可逐步升級以完成復(fù)雜的工藝。

SENTECH-等離子體增強化學(xué)氣相沉積 - (Depolab 200) 產(chǎn)品詳情

等離子體增強化學(xué)氣相沉積

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition - PECVD

Deplab 200 PECVD 是SENTECH開發(fā)的高性價比直接載片式平行板電極等離子體增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。

主要技術(shù)特點

● 高性價比：Depolab 200 等離子體增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備將平行板等離子體源設(shè)計與直接載片相結(jié)合。

● 升級擴展性：Depolab 200 等離子體增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備采用模塊化設(shè)計，可升級更大的真空泵組，低頻射頻源和更多的氣路。

● 控制軟件：*的用戶友好軟件包括模擬圖形用戶界面、參數(shù)窗口、工藝菜單編輯窗口、數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

● Depolab 200 是 SENTECH 開發(fā)的基本科研型等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備，它結(jié)合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設(shè)計和直接載片的腔體設(shè)計，具有高性價比的優(yōu)點。從 2″ 至 8″ 晶片和樣品的標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用開始，可逐步升級以完成復(fù)雜的工藝。

● Depolab 200 的顯著特點是系統(tǒng)的可靠設(shè)計，軟件和硬件的靈活性。在該設(shè)備上開發(fā)了不同的工藝，例如用于高質(zhì)量氮化硅和氧化硅層的沉積。PECVD Depolab 200 包括帶氣路柜的反應(yīng)腔體，電子控制，計算機、前級泵和配電箱。

● Depolab 200 等離子增強沉積設(shè)備用于在從室溫到 400℃ 的溫度范圍內(nèi)沉積 SiO₂、SiNx、SiONx 和 α-Si 薄膜。Depolab 200 特別適用于沉積用于刻蝕掩膜，電隔離膜及其他的介質(zhì)膜。

● Depolab 200 由 SENTECH 的控制軟件操作，使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場總線技術(shù)和用戶友好的通用用戶界面。

等離子體增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備 - Depolab 200

● 干泵組

● 開蓋載片

● 占地面積小

● 可選低頻射頻降低應(yīng)力

● 襯底溫度可高達 400?°C

● 適用于大到 200mm 的晶片

● 等離子增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備

關(guān)鍵詞：真空泵標(biāo)準(zhǔn) 配電箱

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