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儀表網(wǎng)>產(chǎn)品庫(kù)>測(cè)量/計(jì)量>其它測(cè)量>其它測(cè)量>scia Mill 200

scia Mill 200

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面議
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  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地北京市
  • 更新時(shí)間2025-02-13
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 所在地區(qū)北京市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量56
  • 人氣值3809
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scia Mill 200適用于在多種材料的復(fù)雜多層膜上進(jìn)行微結(jié)構(gòu)刻蝕,樣品尺寸可達(dá)直徑200mm。該系統(tǒng)對(duì)活性氣體相容,能夠進(jìn)行反應(yīng)蝕刻工藝以提高刻蝕選擇比和刻蝕速率。scia Mill 200采用靈活的模塊化設(shè)計(jì),可以有單樣品的適合研發(fā)的版本,也可以進(jìn)行組合式布局最多至3個(gè)工作倉(cāng)和2個(gè)晶圓載具load-lock,以適合批量生產(chǎn)。
scia Mill 200 產(chǎn)品詳情
常規(guī)屬性

- 采用圓形離子源對(duì)全部樣品區(qū)域在惰性或反應(yīng)氣體環(huán)境下進(jìn)行刻蝕

- 可進(jìn)行離子束刻蝕(IBE、IBM)、反應(yīng)離子束刻蝕(RIBE)和化學(xué)輔助離子束刻蝕(CAIBE)

- 刻蝕角度調(diào)整:樣品臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)且傾斜可調(diào)

- 離子束具有準(zhǔn)直性,垂直入射刻蝕時(shí),無(wú)需修正擋板亦可獲得的均勻性

- 通過(guò)反應(yīng)氣體可以提高刻蝕速率,并控制刻蝕選擇性

- 通過(guò)基于SIMS(二次離子質(zhì)譜)或光學(xué)的截止點(diǎn)探測(cè)技術(shù)控制工藝

- 可以刻蝕光刻膠晶圓,具有良好的樣品冷卻配置

- 在不同的組合式布局中可以進(jìn)行全自動(dòng)載具操作。

- 可以適合各種傾斜光柵的刻蝕研發(fā)與生產(chǎn)

系統(tǒng)性能

scia Mill 200

樣品尺寸

ф200mm

樣品夾具

水冷,氦背板冷卻

轉(zhuǎn)速:5 - 20 rpm

傾斜:0° - 175°

步長(zhǎng):0.1°

離子源

ф350mm圓形射頻源RF350-e

中和器

RF等離子體橋中和器N-RF

參考刻蝕速率

Pt:  35 nm/min

Cu:  44 nm/min

W:   17 nm/min

SiO2: 20nm/min

刻蝕均勻性

≦ 1% (σ/mean)

產(chǎn)能

12 Wafer/h (100 nm SiO2 on 200 mm wafer)   

基礎(chǔ)真空度

5 x 10-7 mbar

尺寸(不含電柜與真空泵)       

3.2 m x 2.5 m x 2.5 m (3個(gè)工作倉(cāng) + 晶圓載具)                  

軟件界面

SECS II / GEM, OPC

標(biāo)準(zhǔn)配置

1 個(gè)工作倉(cāng)


配置選項(xiàng)

- 單片 Load-Lock(可選), OES 或SIMS截止點(diǎn)探測(cè)器(可選)

-單片 Load-Lock(可選);

-組合式布局可至3個(gè)工作倉(cāng)和晶圓載具;

-OES 或SIMS截止點(diǎn)探測(cè)器(可選)

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