HUV-100便攜式紫外線照射裝置ORC

HUV-100便攜式紫外線照射裝置ORC

UV照射裝置， 便攜式紫外線照射裝置HUV-100，HUV-300，QRU-2161-F，QRU-2161-E，QRU-2161-D，QRU-2161-H，HMW-615N-4，VUM-3073F，VUS-3100，VUS-3100-R，VUE-3020-172，QRM-2288，紫外線托盤清潔器

 產(chǎn)品介紹

用途

接著劑、樹脂、涂層劑、墨水、涂裝等的UV硬化

特征

燈塔之家片手可以輕松應(yīng)對的重量

靈活緊湊的形狀

握起來舒適的握把

高級感的不銹鋼細(xì)紋車身

電源單元電子式點燈回路

小型化＆輕量化

通過提高效率實現(xiàn)節(jié)能

易于理解的操作面板

QRU-2161系列

用途

狹小照射范圍的UV光照射

小規(guī)模的照射實驗

作為各種UV照射用途

特征

反射鏡可以選自聚光型和擴(kuò)散型

被照射物和面積可根據(jù)需要選擇燈的輸出

可以與UV輸送機(jī)等一起使用。

HMW-615N-4

用途

在半導(dǎo)體制造工藝、液晶基板制造工藝等形成微細(xì)圖案的工藝中，該裝置通過照射UV來去除基板表面剩余的有機(jī)物，從而實現(xiàn)無接觸去除有機(jī)物污染。該裝置可以在不損壞基板表面的情況下進(jìn)行表面清洗和改質(zhì)。

特征

基板損傷小，具有分解有機(jī)物的高能力，搭載了獨特的低壓UV燈。

利用震動基板的模式，基板上的UV光量會均勻照射。

基板加熱不會太多。

臭氧切割照射方式和氮氣氣體置換照射方式都可以適用。

VUM-3073F

在半導(dǎo)體制造工藝、液晶基板制造工藝等形成微細(xì)圖案的工藝中，該裝置通過照射UV來去除基板表面剩余的有機(jī)物，從而實現(xiàn)無

接觸去除有機(jī)物污染。該裝置可以在不損壞基板表面的情況下進(jìn)行表面清洗和改質(zhì)。

特征

基板損傷小，具有分解有機(jī)物的高能力，搭載了獨特的低壓UV燈。利用震動基板的模式，基板上的UV光量會均勻照射?；寮訜岵粫?。臭氧切割照射方式和氮氣氣體置換照射方式都可以適用。