一、 簡介

KLA的Filmetrics系列利用光譜反射技術(shù)實(shí)現(xiàn)薄膜厚度的精確測量，其測量范圍從nm-mm，可實(shí)現(xiàn)如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導(dǎo)體膜、有機(jī)薄膜、導(dǎo)電透明薄膜等膜厚精確測量，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款產(chǎn)品，可測量從幾mm到450mm大小的樣品，薄膜厚度測量范圍1nm到mm級(jí)。Filmetrics F60 系列的產(chǎn)品可像F50產(chǎn)品一樣測繪薄膜厚度和折射率，但它增加了許多用于生產(chǎn)環(huán)境的功能。 這些功能包括凹槽自動(dòng)檢測、自動(dòng)基準(zhǔn)確定、全封閉測量平臺(tái)、預(yù)裝軟件的工業(yè)計(jì)算機(jī)，以及升級(jí)到全自動(dòng)化晶圓傳輸?shù)臋C(jī)型。不同的 F60-t 儀器根據(jù)波長范圍加以區(qū)分。較短的波長 (例如， F60-t-UV) 一般用于測量較薄的薄膜，而較長的波長則可以用來測量更厚、更不平整以及更不透明的薄膜。 .

測量原理-光譜反射

光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和 折射率。 兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng) （絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱）。 因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。 而且具有快速，簡便，成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。

二、 主要功能

測量厚度、折射率、反射率和穿透率

? 單層膜或多層膜疊加

? 凹槽自動(dòng)檢測

? 自動(dòng)基準(zhǔn)確定

? 全自動(dòng)化晶圓傳輸

l 技術(shù)能力

光譜波長范圍：190-1700 nm

厚度測量范圍：5nm-450μm

集成平臺(tái)/光譜儀/光源裝置（不含平臺(tái)）

4", 6" and 200mm 參考晶圓

TS-SiO2-4-7200 厚度標(biāo)準(zhǔn)

真空泵

備用燈