一、 簡介

測量原理-光譜反射

光譜橢圓偏振儀 (SE) 和光譜反射儀 (SR) 都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和 折射率。 兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光, 而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng) （絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對稱）。 因?yàn)椴簧婕叭魏我苿?dòng)設(shè)備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更透光率分析。光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。 而且具有快速，簡便，成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。

二、 主要功能

l 主要應(yīng)用

測量沉積率、沉積層厚度、光學(xué)常數(shù) (n 和 k 值) 和半導(dǎo)體以及電介質(zhì)層的均勻性

? 平滑和半透明薄膜

? 輕度吸收薄膜

? 實(shí)時(shí)測量膜厚

l 技術(shù)能力

光譜波長范圍：380-1050 nm

厚度測量范圍：15nm-70 μm

極大地提高生產(chǎn)力

低成本：幾個(gè)月就能收回成本

A精確 ：測量精度高于 ±1%

快速：幾秒鐘完成測量

非侵入式：在沉積室以外進(jìn)行測試

易于使用：直觀的 Windows™ 軟件

幾分鐘就能準(zhǔn)備好的系統(tǒng)

三、 應(yīng)用

半導(dǎo)體制造：光刻膠、氧化物、氮化物

液晶顯示器：液晶間隙、聚酰亞胺保護(hù)膜、納米銦錫金屬氧化物

生物醫(yī)療原件：聚合物/聚對二甲苯涂層、生物膜/氣泡球厚度、藥物涂層支架

微機(jī)電系統(tǒng)：硅膜、氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡

光學(xué)鍍膜：硬鍍膜、增透鍍膜、Filters濾光