托托科技 無掩模光刻 光學(xué)輪廓儀 微納加工與精密檢測系列設(shè)備

托托科技專注精密光學(xué)儀器研發(fā)制造，搭建微納加工設(shè)備與精密檢測設(shè)備兩大核心裝備矩陣，形成無掩模紫外光刻、織雀^®3D光刻、神影三合一光學(xué)輪廓儀等產(chǎn)品線，配套磁光、光電檢測設(shè)備，覆蓋半導(dǎo)體、生物醫(yī)療、超材料、精密光學(xué)、3C電子、科研實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域，實(shí)現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)“加工成型 — 三維形貌檢測”一體化解決方案。

1. 無掩模光刻

該系列依托DMD數(shù)字微鏡與激光直寫雙技術(shù)路線，摒棄傳統(tǒng)實(shí)體掩模版，省去制版成本與周期，支持矢量直寫、平面大面積曝光、4096 階灰度光刻，可制備 2D 平面圖案與 2.5D 連續(xù)曲面微結(jié)構(gòu)。設(shè)備分四大版本適配不同場景：教育版桌面機(jī)型、科研步進(jìn)式機(jī)型、高速掃描量產(chǎn)機(jī)型、生命科學(xué)專用機(jī)型；加工精度覆蓋0.3μm~2μm，加工幅面可達(dá) 4㎡，曝光速度可達(dá) 1200mm2/min，支持GDS/DWG/DXF通用版圖文件。標(biāo)配主動對焦、精準(zhǔn)套刻、陣列參數(shù)測試功能，兼容SU-8厚膠，可制備高深寬比微流控、MEMS 器件、微透鏡陣列、二維材料電極、超表面、防偽浮雕、掩模版等，還可定制手套箱、曲面、大尺寸特種光刻方案。

托托科技 無掩模光刻 光學(xué)輪廓儀

神影 MV-1000/MV-7000 三合一光學(xué)輪廓儀，集成白光干涉、共聚焦、景深融合、明場四種觀測模式，一機(jī)完成納米至毫米級全尺度表面三維輪廓檢測，替代多臺單一功能檢測設(shè)備。 測量能力覆蓋亞納米劃痕、微粗糙度、臺階高度、溝槽體積、面型曲率等二維、三維參數(shù)，粗糙度 RMS 重復(fù)性可達(dá)0.003nm。搭載自主 AI 算法，具備自動找焦、智能調(diào)平、1 秒圖像融合功能；支持 200 億像素三維拼接 + 區(qū)域?qū)Ш剑骖櫤暧^全貌與微觀細(xì)節(jié)。設(shè)備配備獨(dú)立集成測頭，附贈 SDK 開發(fā)包，可接入自動化產(chǎn)線；軟件內(nèi)置全套測量工具，支持一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化檢測報告，自定義自動化檢測流程并實(shí)現(xiàn)OK/NG自動良率判定。廣泛用于光學(xué)元件、半導(dǎo)體晶圓、MEMS、陶瓷斷口、微流控、3C 金屬表面等樣品缺陷與尺寸質(zhì)控，完整承接光刻、3D打印樣品成型后的形貌精度檢測。

托托科技微納加工+精密檢測設(shè)備形成閉環(huán)鏈路：無掩模光刻實(shí)現(xiàn)二維、2.5D微圖案快速制備，3D光刻完成三維復(fù)雜微納結(jié)構(gòu)一體成型，光學(xué)輪廓儀完成成品粗糙度、尺寸、面型精度無損檢測，從研發(fā)打樣到小批量量產(chǎn)全覆蓋。設(shè)備選型豐富，桌面小型機(jī)型適配高校實(shí)驗(yàn)室教學(xué)與新材料研發(fā)，立式大行程高精度機(jī)型滿足企業(yè)批量生產(chǎn)；材料兼容樹脂、陶瓷、水凝膠、各類光刻膠、硅基、金屬、光學(xué)玻璃等，覆蓋生物醫(yī)療、半導(dǎo)體、清潔能源、精密光學(xué)、超材料、微電子等行業(yè)。公司擁有百項知識產(chǎn)權(quán)、百名技術(shù)研發(fā)人員與 500 余家合作企業(yè)，可提供設(shè)備定制、工藝咨詢、材料配套一站式光學(xué)微納解決方案。