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VES-10 日本SHINKUU 雙腔室小型真空鍍膜機(jī)

參考價
¥3500-¥5500/件
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號VES-10
  • 品牌SHINING
  • 所在地武漢市
  • 更新時間2026-08-03
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)武漢市
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值4773
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 長期以來,公司保持與海外原廠高效順暢的對接渠道,堅持穩(wěn)定規(guī)范的商務(wù)對接模式,與多家生產(chǎn)制造廠商建立長期穩(wěn)定的合作關(guān)系,依托成熟的海外采購渠道與本地倉儲交付能力,兼顧貨源穩(wěn)定性與交付時效,同時搭配售前選型咨詢、售后技術(shù)答疑等配套支持,持續(xù)為華中及全國區(qū)域客戶提供可靠的工業(yè)品配套解決方案。

 

 

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日本SHINKUU 雙腔室小型真空鍍膜機(jī)
VES-10 是日本 SHINKUU 專為電鏡實驗室打造的集成式三合一真空鍍膜設(shè)備,一臺設(shè)備集成碳蒸鍍、離子磁控濺射、等離子親水化改性三大樣品前處理工藝,可替代三臺單功能設(shè)備,大幅節(jié)省實驗室臺面空間與采購成本。設(shè)備配置兩套獨立的可視化真空腔體,碳蒸發(fā)腔、離子濺射腔擁有互不干擾的抽氣、保壓、放氣回路,可獨立開展作業(yè)。
日本SHINKUU 雙腔室小型真空鍍膜機(jī) 產(chǎn)品詳情

日本SHINKUU 雙腔室小型真空鍍膜機(jī)

核心技術(shù)參數(shù)

1. 整機(jī)通用基礎(chǔ)參數(shù)

  1. 供電規(guī)格:AC100V 單相 15A,三孔接地電源插頭

  2. 整機(jī)外形尺寸:寬 400mm × 深 356mm,底座高 280mm;碳蒸鍍腔加高 185mm,濺射腔加高 101mm

  3. 整機(jī)凈重:29kg;配套旋片真空泵重量 14.6kg,抽氣速率 50L/min

  4. 腔體材質(zhì):防爆硬質(zhì)高透玻璃,氟橡膠真空密封墊圈

  5. 適配靶材:金、金鈀、鉑、銀、銅、鉻、ITO 等金屬 / 合金濺射靶材

2. 左側(cè)碳蒸鍍腔體參數(shù)

  1. 腔體內(nèi)徑:Φ120mm,腔體高度 140mm

  2. 蒸發(fā)源與樣品臺間距:45~75mm 連續(xù)可調(diào)

  3. 供電模式:預(yù)烘烤、除氣、蒸鍍?nèi)坞妷簷n位,參數(shù)可記憶保存

3. 右側(cè)離子濺射腔體參數(shù)

  1. 腔體內(nèi)徑:Φ120mm,腔體高度 65mm

  2. 樣品臺直徑:Φ50mm,懸浮浮動式電極結(jié)構(gòu)

  3. 電極與樣品臺固定間距:35mm

  4. 濺射電源:DC500V,輸出電流 0~50mA 連續(xù)可調(diào),實時電流表盤顯示

  5. 程序功能:內(nèi)置鍍膜計時模塊,支持自動循環(huán)濺射作業(yè)

4. 等離子親水處理參數(shù)

  1. 放電模式:低壓輝光等離子放電

  2. 適用處理試樣:高分子薄膜、生物組織切片、陶瓷絕緣材料

  3. 處理效果:提升樣品表面親水浸潤性,消除表面有機(jī)污染物

適用行業(yè)與檢測場景

  1. 高校材料 / 生物實驗室

    SEM、TEM 教學(xué)實驗試樣前處理;金屬、陶瓷、高分子、生物切片導(dǎo)電鍍膜;薄膜材料表面親水化改性研究。

  2. 第三方材料檢測機(jī)構(gòu)

    各類未知固體樣品微觀形貌檢測預(yù)處理,批量試樣標(biāo)準(zhǔn)化快速制備,滿足大批量檢測業(yè)務(wù)需求。

  3. 半導(dǎo)體微電子研發(fā)實驗室

    晶圓、芯片微型器件貴金屬濺射導(dǎo)電層,用于微觀缺陷、斷面微觀形貌電鏡觀測。

  4. 新能源電池材料實驗室

    鋰電池正負(fù)極粉體、隔膜、極片試樣碳膜 / 金鈀膜蒸鍍,觀測顆粒微觀形貌、內(nèi)部孔隙結(jié)構(gòu)。

  5. 生物醫(yī)藥科研單位

    軟組織、生物切片低損傷等離子預(yù)處理,制備無電荷干擾的電鏡觀測樣品。

  6. 配套設(shè)備適配

    臺式掃描電鏡、場發(fā)射掃描電鏡、透射電鏡、原子力顯微鏡 AFM 配套樣品前處理設(shè)備。

日本SHINKUU 雙腔室小型真空鍍膜機(jī)

核心功能優(yōu)勢

  1. 三合一集成設(shè)計,一機(jī)替代三臺設(shè)備

    整合碳蒸鍍、貴金屬磁控濺射、等離子親水化三大電鏡前處理工藝,無需分別采購碳鍍膜機(jī)、濺射儀、等離子清洗機(jī),減少設(shè)備采購預(yù)算,節(jié)約實驗室臺面擺放空間。

  2. 雙腔體獨立作業(yè),大幅提升樣品處理效率

    左右腔體抽真空、放氣回路隔離,一個腔體開蓋更換樣品時,另一腔體可保持真空狀態(tài)持續(xù)作業(yè),無需整機(jī)重復(fù)抽真空,批量試樣處理工時縮短 50% 以上。

  3. 可視化防爆玻璃腔體,實時監(jiān)控成膜狀態(tài)

    高透明硬質(zhì)玻璃腔體可直觀觀察碳蒸發(fā)、金屬濺射全過程,操作人員可實時判斷膜層厚度、成膜均勻程度,避免過蒸鍍、膜層缺失導(dǎo)致樣品觀測失效。

  4. 納米級細(xì)膩濺射膜層,適配十萬倍以上高倍率電鏡觀測

    磁控濺射工藝生成貴金屬導(dǎo)電膜晶粒尺寸極小,無粗大顆粒偽影,滿足場發(fā)射 SEM 超高倍率形貌觀測要求;碳蒸鍍適配大尺寸試樣、低倍率常規(guī)觀測,兩種工藝自由切換覆蓋全部觀測需求。

  5. 工藝參數(shù)可預(yù)設(shè)記憶,保障實驗數(shù)據(jù)可重復(fù)

    碳蒸鍍加熱檔位、濺射輸出電流、鍍膜計時時長均可預(yù)設(shè)存儲,同批次試樣一鍵調(diào)用固定工藝參數(shù),實驗成像效果、膜層厚度保持統(tǒng)一,符合實驗室標(biāo)準(zhǔn)化實驗管控要求。

  6. 小型輕量化臺式機(jī)身,普通實驗室均可安置

    整機(jī)凈重僅 29kg,占地面積小,無需定制專用設(shè)備機(jī)柜,配套小型真空泵可收納于設(shè)備底部,小型高校實驗室、第三方檢測小作坊均可輕松布置。

  7. 兼顧導(dǎo)電鍍膜與表面改性,覆蓋多領(lǐng)域試樣處理需求

    除消除絕緣樣品荷電的導(dǎo)電膜制備外,內(nèi)置等離子親水模塊可處理高分子薄膜、生物切片、陶瓷材料,改善表面浸潤特性,同時適配材料形貌觀測與表面改性研究兩類實驗。

  8. 簡易自動化流程,人員快速上手操作

    整機(jī)采用實體按鍵、模擬表盤、機(jī)械計時旋鈕,無復(fù)雜觸控編程;設(shè)定鍍膜時長后一鍵啟動全自動流程,鍍膜完成自動切斷電源并釋放腔體真空,無專業(yè)設(shè)備操作經(jīng)驗人員也可穩(wěn)定完成試樣制備。



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