基礎(chǔ)核心參數(shù)

1. 工作原理：氣動機構(gòu)對各個試樣獨立施加壓力，高精度位移傳感器持續(xù)采集 Z 軸去除厚度；系統(tǒng)實時比對設定研磨量，達標后獨立抬升加壓頭停止加工，配合轉(zhuǎn)速、供水時序控制完成試樣研磨拋光，檢測記錄可保存歸檔。

2. 型號：Q-roy

3. 工位配置：3 工位獨立單點加壓

4. 加壓范圍：單工位 5～30N 獨立可調(diào)

5. 研磨量設定區(qū)間：5μm～5mm，設定分辨率 1μm

6. 試樣規(guī)格：適配 φ25/30/40mm 鑲嵌試樣，可定制夾具

7. 轉(zhuǎn)速參數(shù)

   磨拋圓盤：50～300rpm，支持正反轉(zhuǎn)

   試樣自轉(zhuǎn)夾具：50～200rpm 無級調(diào)速

8. 運行模式：研磨量自動停機模式 / 定時停機模式；單程序兩段工藝可編程

9. 磨盤規(guī)格：標配 Φ200mm、Φ223mm 高精度研磨盤，可選 Φ250mm 盤

10. 驅(qū)動系統(tǒng)：頭部 60W 無刷電機，底座 120W 無刷電機，低震動低噪音

11. 氣源條件：0.5～0.7MPa 潔凈干燥壓縮空氣

12. 供電：交流 100～240V 寬電壓

13. 整機尺寸：480×670×500mm

14. 使用環(huán)境：溫度 10～35℃，濕度≤85% RH，無結(jié)露、無粉塵腐蝕環(huán)境

15. 標準配件：主機、三點加壓夾具、冷卻水管路、操作手冊；自動拋光液滴加器、定制夾具、備用磨盤另行選配

日本IMT 三工位獨立控量金相研磨拋光設備

核心功能特點

1. 三工位相互獨立管控，三支試樣可設置不同研磨厚度與壓力，單個試樣完成自動停機，不干擾其他樣品加工，提升多規(guī)格試樣同步制備效率。

2. 微米級精準去除控制，搭配盤面跳動補償功能，弱化耗材形變、設備機械偏差影響，保證平行試樣研磨厚度統(tǒng)一。

3. 雙運行模式自由切換，定量去除模式適合需要精準去除表層材料的失效分析；定時模式用于常規(guī)鏡面精拋。

4. 兩段工藝程序編輯，一套流程內(nèi)自動切換壓力、轉(zhuǎn)速，連續(xù)完成粗磨、精拋工序，減少人工干預。

5. 全自動冷卻供水系統(tǒng)，研磨同步噴淋冷卻水，抑制摩擦升溫，防止金屬、復合材料試樣顯微組織發(fā)生變化。

6. 自動 / 手動兩種操作方式，全自動程序適合批量標準化制樣；抬起研磨頭可手動打磨，應對異形、特殊試樣微調(diào)處理。

7. 可選配拋光液自動滴加組件，程序聯(lián)動控制滴液啟停，實現(xiàn)長時間無人值守連續(xù)制樣。

8. 觸控屏 + 實體旋鈕復合操作，程序存儲調(diào)取便捷，轉(zhuǎn)速、壓力現(xiàn)場快速微調(diào)，降低操作人員上手門檻。

9. 無刷電機驅(qū)動，運行平穩(wěn)震動小，長時間持續(xù)加工轉(zhuǎn)速穩(wěn)定，延長整機使用壽命。

   10. 完整工藝參數(shù)可存儲調(diào)取，試驗條件可復現(xiàn)，滿足科研論文、體系審核、第三方檢測方法學驗證的數(shù)據(jù)溯源需求。

適用場景