JGK-3高精密光刻機
本機是制造中、大規(guī)模集成電路,傳感器,表面波元件,磁泡,微波和CCD等器件的重要光刻設備。
主要技術參數(shù):
1、適用掩模尺寸:①150×150×2.3mm ②125×125×2.3mm ③100×100×2.3(選購)
2、適用的硅片尺寸:①Φ125mm ②Φ100mm ③Φ75mm(選購)
3、曝光分辨率:2um,細調可達1um.
4、掩模與硅片之間的相對位移范圍:X、Y±5mm,θ±5°
5、掩模旋轉范圍:±5°
6、承片臺的球座平面至掩模板面微調范圍:0~1mm
7、曝光燈源:200W超高壓直流汞燈
8、曝光譜線:436、405、365(nm)
9、曝光系統(tǒng)能量不低于:18mw/cm2
10、曝光系統(tǒng)的照度均勻度:Φ110mm范圍內±3%;Φ136mm范圍內±5%
11、顯微鏡的照明波長:≈545nm
12、曝光時間控制范圍:0~99.99S
13、雙目分離視場顯微鏡的放大倍數(shù):①目鏡共二種:10X,15X ②平視場物鏡共三種:4X,10X,16X ③合成放大倍率:40X-240X
14、分離視場調節(jié)范圍:30~80mm
15、真空接觸壓力:≤-0.06Mpa
16、供電電源:AC220V±10% 50HZ
17、環(huán)境溫度:22±2°C
18、相對溫度:≤60%
19、凈化等級:100級
20、外形尺寸:W960×D1000×H1400mm




































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