【儀表網 企業(yè)動態(tài)】日前，蘇大維格(300331.SZ)發(fā)布公告，公司擬籌劃以現(xiàn)金方式收購常州維普半導體設備有限公司(簡稱“常州維普”)不超過51%的股權，收購完成后，預計實現(xiàn)對標的公司的控股。標的公司100%股權的整體估值暫定為不超過人民幣10億元，本次交易對價預計不超過人民幣5.10億元。
 

 

　　公告顯示，常州維普是國內極少數(shù)在半導體光掩模缺陷檢測設備領域已實現(xiàn)規(guī)?；慨a的企業(yè)，其技術、產品和核心算法系正向自研開發(fā)，擁有自主知識產權，主要核心零部件實現(xiàn)了國產化和自主可控。標的公司產品已進入國內頭部晶圓廠和國內外頭部掩膜版廠商的量產線。
 

　　光掩模(Photomask)，又稱掩模、(光刻)掩膜版，光罩等，是微電子制造過程中圖形轉移的母版，是半導體、平板顯示等行業(yè)生產制造的關鍵核心材料。在光掩模缺陷檢測設備領域，設備國產率不足 3%，國產替代尚在早期，空間巨大。
 

　　目前，蘇大維格在高端智能裝備領域，研發(fā)、生產和銷售各類激光直寫光刻機和納米壓印光刻機，其中以激光直寫光刻機為主。激光直寫光刻機是用于生產制造光掩模的核心設備之一，國內半導體企業(yè)所使用的激光直寫光刻機主要為美國應用材料(Applied Materials)和瑞典邁康尼(Mycronic)等美歐企業(yè)所壟斷，國產化率極低。
 

　　蘇大維格一直致力于積極拓展激光直寫光刻機在半導體掩模制造領域的量產應用和國產替代，潛在客戶群體和常州維普現(xiàn)有客戶體系基本重疊，收購常州維普，利用其現(xiàn)有客戶資源，有利于大大減少公司的客戶開發(fā)成本和產品驗證周期。
 

　　此外，激光直寫光刻機和掩模缺陷檢測設備，在核心部件構成上相似度較高，均主要由光學系統(tǒng)、核心算法、軟件系統(tǒng)、精密運動控制平臺、電氣電控系統(tǒng)等五部分組成。公司在光學系統(tǒng)、精密運動控制平臺上有較深的技術積累，常州維普則在核心算法、軟件系統(tǒng)、電氣電控系統(tǒng)等方面有技術優(yōu)勢和量產經驗。本次交易后，雙方優(yōu)勢互補，有利于增強公司在直寫光刻領域的研發(fā)實力，提高產品的迭代速度，提升設備的競爭力，加快國產替代的進程，實現(xiàn)公司的戰(zhàn)略目標，同時積極響應國家在集成電路領域的發(fā)展規(guī)劃。
 

　　蘇大維格表示，本次簽署的《股權收購意向協(xié)議》僅為公司與標的公司股東方達成的初步意向，本次股權收購事宜尚處于籌劃階段，在未完成相關審批程序、未實施完成股權收購事項之前，該籌劃活動不會對公司生產經營和業(yè)績產生重大影響。本次交易正式協(xié)議尚未簽署，收購事項仍存在不確定性，暫時無法預計對公司經營業(yè)績的影響。
 

　　2025年中期，蘇大維格營業(yè)總收入9.82億元，歸母凈利潤3066.17萬元。