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北京環(huán)創(chuàng)科學(xué)儀器有限公司
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  • 微控?cái)U(kuò)散爐

    詳細(xì)說明生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備:全功能微控?cái)U(kuò)散系統(tǒng)【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】該系統(tǒng)式生產(chǎn)半導(dǎo)體器件和大規(guī)模集成電路的重要工藝設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件的擴(kuò)散、氧化、退火、燒結(jié)等工...

    型號(hào): 微控?cái)U(kuò)散爐 所在地:北京市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/8/6 11:25:00 對(duì)比
  • 時(shí)效爐

    詳細(xì)說明生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備:鈹青銅真空時(shí)效爐【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】鈹青銅是一種是以鈹為基本合金元素的銅基合金(Be0.2~2.75%wt%),在所有的鈹合金中是用途的一種...

    型號(hào): 時(shí)效爐 所在地:北京市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/8/6 11:22:32 對(duì)比
  • 真空處理爐

    詳細(xì)說明生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備:【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】真空熱處理爐是實(shí)現(xiàn)真空熱處理的重要設(shè)備

    型號(hào): 真空處理爐 所在地:北京市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/8/6 11:20:20 對(duì)比
  • 氧化爐

    詳細(xì)說明生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備:L4611Ⅱ-Z/RZQ雙管氧化爐【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】氧化爐主要是完成半導(dǎo)體元器件的氧化,使元器件表面在一定的溫度和氣氛的反應(yīng)下形成一種所需...

    型號(hào): 氧化爐 所在地:北京市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/8/6 11:18:35 對(duì)比
  • 退火爐

    詳細(xì)說明生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備:L4811Ⅱ/RZQ立式真空燒結(jié)退火爐【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】真空燒結(jié)退火爐是為滿足半導(dǎo)體器件和磁性材料行業(yè)的大批量、高生產(chǎn)率的要求而設(shè)計(jì)的一種...

    型號(hào): 退火爐 所在地:北京市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/8/6 11:16:30 對(duì)比
  • 程控電阻爐

    詳細(xì)說明生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備:【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】電阻爐是利用電流使?fàn)t內(nèi)電熱元件或加熱介質(zhì)發(fā)熱,從而對(duì)工件或物料加熱的工業(yè)爐

    型號(hào): 程控電阻爐 所在地:北京市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/8/6 11:14:49 對(duì)比
  • 燒結(jié)爐

    詳細(xì)說明生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備:鏈(帶)式燒結(jié)爐【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】該鏈(帶)式燒結(jié)爐主要由加熱部分、精密溫度自動(dòng)控制系統(tǒng)、機(jī)械機(jī)構(gòu)、氫氮保護(hù)裝置等組成

    型號(hào): 燒結(jié)爐 所在地:北京市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/8/6 11:13:05 對(duì)比
  • 平行焊接機(jī)

    詳細(xì)說明生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備:【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】該設(shè)備應(yīng)用非常廣泛,不僅適用于、航天、通訊、航海、地質(zhì)、石油、采礦等行業(yè)(使用環(huán)境惡劣,安全要求高)

    型號(hào): 平行焊接機(jī) 所在地:北京市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/8/6 11:11:09 對(duì)比
  • 排蠟烘坯爐

    詳細(xì)說明生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備:【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】主要是用于玻璃絕緣子材料的排蠟和烘坯成型的關(guān)鍵設(shè)備,也可用于燒結(jié)、退火等工藝

    型號(hào): 排蠟烘坯爐 所在地:北京市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/8/6 11:09:20 對(duì)比
  • 擴(kuò)散爐

    詳細(xì)說明生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備:【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】擴(kuò)散爐是集成電路生產(chǎn)線前工序的重要工藝設(shè)備之一,它的主要用途是對(duì)半導(dǎo)體進(jìn)行摻雜,即在高溫條件下將摻雜材料擴(kuò)散入硅片,從而...

    型號(hào): 擴(kuò)散爐 所在地:北京市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/8/6 11:07:06 對(duì)比
  • 氫氣燒結(jié)爐

    詳細(xì)說明生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備:L2217Ⅱ/RZQ陶瓷金屬化氫氣燒結(jié)爐【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】該設(shè)備主要用于陶瓷金屬化燒結(jié)工藝,以及零件在高溫1450°C~1650°CQ氫氣...

    型號(hào): 氫氣燒結(jié)爐 所在地:北京市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/8/6 11:05:00 對(duì)比
  • LPCVD

    詳細(xì)說明生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備:【LPCVD產(chǎn)品簡(jiǎn)介】LPCVD是用加熱的方式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應(yīng)并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜

    型號(hào): LPCVD 所在地:北京市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/8/6 11:02:54 對(duì)比

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