詳細摘要: ULVACPHOENIX愛發(fā)科二手刻蝕機現(xiàn)貨,1998年設(shè)備,可對6-8英寸的晶圓進行蝕刻處理
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-04-03 在線留言
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詳細摘要: ULVACPHOENIX愛發(fā)科二手刻蝕機現(xiàn)貨,1998年設(shè)備,可對6-8英寸的晶圓進行蝕刻處理
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-04-03 在線留言詳細摘要: ULVAC二手現(xiàn)貨刻蝕機RMD-200M,2000年設(shè)備,多腔室,可對12英寸晶圓進行加工
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-04-03 在線留言詳細摘要: CANON/ANELVA刻蝕機I-1060SVIIPLUS-1,2003年設(shè)備,可針對8英寸晶圓進行刻蝕工藝處理
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-04-03 在線留言詳細摘要: CANON/ANELVA刻蝕機ILD4100,2005年設(shè)備,打包封裝完成,隨時可以發(fā)貨
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-04-03 在線留言詳細摘要: SEZ/LAMRESEARCH刻蝕機203二手現(xiàn)貨供應(yīng),旋轉(zhuǎn)刻蝕機,可對4-8英寸的晶圓進行蝕刻加工處理
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-04-03 在線留言詳細摘要: SEZ/LAMRESEARCH304刻蝕機二手現(xiàn)貨供應(yīng),2004年設(shè)備,旋轉(zhuǎn)刻蝕機
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-04-02 在線留言詳細摘要: SEZ/LAMRESEARCH刻蝕機323現(xiàn)貨供應(yīng),2012年設(shè)備,可加工8~12英寸晶圓
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-04-02 在線留言詳細摘要: SEZ / LAM RESEARCH 刻蝕機4300二手現(xiàn)貨供應(yīng)
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-04-02 在線留言詳細摘要: GASONICS/NOVELLUSPEPIRIDIADL二手刻蝕機現(xiàn)貨制造商:GASONICS/NOVELLUS模型:PEPIRIDIADL類別:ETCHERS...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-04-02 在線留言詳細摘要: GASONICS/NOVELLUSSIERRA刻蝕機二手現(xiàn)貨供應(yīng),已打包封裝完成,下單即可發(fā)貨
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-03-28 在線留言詳細摘要: 二手刻蝕機OXFORDPLASMALAB100現(xiàn)貨供應(yīng),2000年設(shè)備,可多3~8英寸的晶圓進行加工處理
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-03-28 在線留言詳細摘要: ASML二手KrF曝光機,光刻機現(xiàn)貨由青島佳鼎分析儀器有限公司提供,除此之外,我們的技術(shù)團隊還支隊對光刻機的技術(shù)改造和方案對接
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2022-05-27 在線留言詳細摘要: Nikon分步投影光刻機NSR-S204B,用于集成電路生產(chǎn)過程中的微光刻工藝,通過投影成像方式,把掩模版上集成電路圖形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重復(fù)...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2022-05-27 在線留言詳細摘要: TWINSCANNXT:1970Ci步進掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級浸沒式光刻工具,專為在成熟節(jié)點批量生產(chǎn)300毫米晶圓而設(shè)計
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2022-05-27 在線留言詳細摘要: 這些i-line步進器具有與尼康DUV掃描儀相同的縮小率和視場大小,是曝光次臨界層的理想選擇,這些層大約占設(shè)備20層或更多層的一半
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2022-05-27 在線留言詳細摘要: TheSUSSMA/BA6SUSSMA/BA6掩模對準(zhǔn)器被廣泛認(rèn)為是半導(dǎo)體微米研究和微系統(tǒng)生產(chǎn)的基準(zhǔn)
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