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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

青島佳鼎分析儀器有限公司


  • 二手翻新現(xiàn)貨Nikon步進(jìn)式光刻機(jī) NSR G8A

    詳細(xì)摘要: NIKONNSRG8A步進(jìn)式光刻機(jī)用于半導(dǎo)體功率器件制造工藝中的光刻工序,即將圖形投影到涂有光刻膠的硅片上的裝置,由此使得所需圖形區(qū)域的光刻膠曝光

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2022-05-27 在線留言

  • 愛發(fā)科 ICP刻蝕設(shè)備 刻蝕系統(tǒng)NE-550EXz

    詳細(xì)摘要: 愛發(fā)科ICP刻蝕設(shè)備刻蝕系統(tǒng)NE-550EXz現(xiàn)貨,電極的刻蝕效果好,能夠進(jìn)行正確穩(wěn)定的刻蝕重點(diǎn)效果檢測,具有維護(hù)便利、性能穩(wěn)定、產(chǎn)能優(yōu)良等特點(diǎn)

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2022-05-27 在線留言

  • CentroTherm 臥式熱反應(yīng)系統(tǒng)HORICOO200

    詳細(xì)摘要: centrotherm臥式熱反應(yīng)系統(tǒng)HORICOO200是大量現(xiàn)場驗(yàn)證及具有多功能的臥式爐系統(tǒng),基于客戶需求可靈活選擇大、中批量生產(chǎn)以及研發(fā)類型機(jī)臺(tái)

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2022-05-27 在線留言

  • ULVAC CS-200系列磁控濺射臺(tái)

    詳細(xì)摘要: ULVACCS-200系列磁控濺射鍍膜設(shè)備是一款追求低成本和用戶友好操作的磁控濺射設(shè)備,通過增加配有機(jī)械手d裝載固定腔室(Loadlockchamber)使在上...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2022-05-27 在線留言

  • 至純科技 單片式濕法清洗設(shè)備 Ultron S200/S300

    詳細(xì)摘要: 隨著半導(dǎo)體芯片工藝技術(shù)的發(fā)展,工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)進(jìn)入28納米以及14nm等更*等級,隨著工藝流程的延長以及越趨復(fù)雜,每個(gè)晶片在整個(gè)制造過程中需要超過200道清洗步驟,...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2022-05-27 在線留言

  • Load-lock式Plasma CVD設(shè)備 CC-200/400

    詳細(xì)摘要: Load-lock式PlasmaCVD設(shè)備CC-200/400是小型的使用便利的可對應(yīng)從研究開發(fā)到量產(chǎn)的設(shè)備

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  • 等離子氣相沉積設(shè)備 AD-230LP

    詳細(xì)摘要: AD-230LP是一種原子層沉積(ALD)系統(tǒng),能夠在原子水平上控制薄膜厚度

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2022-05-27 在線留言

  • 熱ALD設(shè)備 AL-1無針孔薄膜沉積設(shè)備

    詳細(xì)摘要: AL-1通過交替向反應(yīng)室提供有機(jī)金屬原料和氧化劑,僅利用表面反應(yīng)沉積薄膜,實(shí)現(xiàn)了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率

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  • 等離子體增強(qiáng)型CVD設(shè)備 PD-3800L

    詳細(xì)摘要: PD-3800L是一種能夠沉積硅基薄膜(氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅)的鎖載等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)

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  • SUSS MA8 雙面接觸式光刻機(jī)

    詳細(xì)摘要: 德國suss公司的ma8光刻機(jī),兼容4、6、8英寸wafer,Led光源,3個(gè)獨(dú)立波長(g、h、i),可自定義

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  • 球差場發(fā)射透射電子顯微鏡 HF5000

    詳細(xì)摘要: 200kV相差校正TEM/STEM,平衡了空間分辨率和傾斜、分析性能通過單極片實(shí)現(xiàn)0.078nm的STEM空間分辨率和高樣品傾斜度、高立體角EDX

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  • 球差校正掃描透射電子顯微鏡 HD-2700

    詳細(xì)摘要: 專用掃描透射顯微鏡HD-2700,配備了與德國CEOSGmbH公司(總經(jīng)理MaxHaider先生)共同開發(fā)的球差校正儀,顯著提高了掃描透射電子顯微鏡的性能,更適...

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  • 透射電子顯微鏡HT7800系列

    詳細(xì)摘要: "RuliTEM"120kV透射電子顯微鏡系列

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  • 超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡Regulus系列

    詳細(xì)摘要: 現(xiàn)有機(jī)型SU8240,SU8230,SU8220及SU8010重新整合,衍生而成Regulus8240、Regulus8230、Regulus8220、Regu...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2022-05-27 在線留言

  • TEL CLEAN TRACK ACT8(ACT12)涂膠顯影機(jī)

    詳細(xì)摘要: 日本東京電子公司生產(chǎn)的TEL牌涂膠顯影機(jī)CLEANTRACKACT8/12,是有著良好性能和可靠性的半導(dǎo)體微電子生產(chǎn)設(shè)備,是可對應(yīng)200/300mm硅片生產(chǎn)的涂...

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2022-05-27 在線留言

  • 日立新型超高分辨SU8600掃描電鏡

    詳細(xì)摘要: 一、設(shè)備用途:用于半導(dǎo)體樣品的形貌、結(jié)構(gòu)研究及樣品的元素分析

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2022-05-26 在線留言

  • 尼康Nikon i-line光刻機(jī)NSR-4425i

    詳細(xì)摘要: 尼康Nikoni-line(365nm波長)光刻機(jī)NSR-4425i,解析度≤700nm,視場大小44*44mm,對準(zhǔn)精度≤100nm

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2022-05-26 在線留言

  • 特征尺寸測量用掃描電鏡CD-SEM S-8840

    詳細(xì)摘要: 特征尺寸測量用掃描電子顯微鏡CD-SEMS-8840,適用于6英寸和8英寸晶圓的線寬測試

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2022-05-26 在線留言

  • 日立CD-SEM二手現(xiàn)貨掃描電鏡S-9220

    詳細(xì)摘要: 日立CD-SEM二手現(xiàn)貨掃描電鏡S-9220適用于8英寸晶圓的監(jiān)測,CD檢測范圍0.1~2.0μm,吞吐量45wph,放大倍數(shù)1000~300,000

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2022-05-26 在線留言

  • 離子色譜儀(內(nèi)置淋洗液發(fā)生器)CIC-D160型

    詳細(xì)摘要: CIC-D160離子色譜儀是一款電路技術(shù)升級的高穩(wěn)定性離子色譜儀,配置雙極電導(dǎo)檢測器,極大的提高了儀器的檢測性能和穩(wěn)定性,帶來很好的用戶體驗(yàn)

    產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2022-04-18 在線留言

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