詳細(xì)摘要： 應(yīng)用范圍：LED、LaserDiode、MEMS、PowerMoS、PowerChip等等蒸鍍設(shè)備型式：1
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青島佳鼎分析儀器有限公司
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詳細(xì)摘要： 關(guān)鍵應(yīng)用：柵極預(yù)清洗RCA清洗光阻去除氧化硅腐蝕氮化硅腐蝕CoSix選擇性腐蝕產(chǎn)品優(yōu)勢：1、占地面積小，將外部unit集成在設(shè)備內(nèi)部來減小整體的占地面積
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詳細(xì)摘要： 超高分辨率冷場發(fā)射掃描電鏡SU9000超高的分辨率(0.4nm)快速更換樣品
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詳細(xì)摘要： AZ®1500Series應(yīng)用通用正性光刻膠，具有出色的基材附著力，適用于要求苛刻的濕法蝕刻應(yīng)用
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詳細(xì)摘要： ASML 步進(jìn)式掃描DUV光刻機(jī) ArF曝光機(jī) NXT1970Ci/1980Di
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詳細(xì)摘要： i線步進(jìn)式光刻機(jī)NSR-SF155適用于廣泛的半導(dǎo)體器件的制造
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詳細(xì)摘要： 2001年12月5日，ASML推出了款具有110nm分辨率的KrF(248nm)StepScan300mm雙級光刻系統(tǒng)
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詳細(xì)摘要： 支持多重曝光、實(shí)現(xiàn)了超高精度與高產(chǎn)出的ArF液浸式掃描光刻機(jī)ArF液浸式掃描光刻機(jī)NSR-S622DArF液浸式掃描光刻機(jī)NSR-S622D專為20nm以下制程...
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詳細(xì)摘要： PAS5500/750FDUV步進(jìn)掃描系統(tǒng)使用成熟的248nmKrF技術(shù)，可以實(shí)現(xiàn)130nm的大規(guī)模生產(chǎn)
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詳細(xì)摘要： 尼康NikonArF掃描光刻機(jī)NSR-S322F裝載了在液浸式裝置中取得優(yōu)秀業(yè)績的StreamlignPlatform，同時進(jìn)一步提高了重合精度與生產(chǎn)效率
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詳細(xì)摘要： SAMCO二手翻新刻蝕系統(tǒng)刻蝕機(jī)RIE-10NR產(chǎn)品優(yōu)勢：高度緊湊型設(shè)計(jì)，節(jié)約空間
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詳細(xì)摘要： 佳能半導(dǎo)體光刻設(shè)備，高分辨率/高生產(chǎn)率KrF掃描儀FPA-6300ES6a二手翻新現(xiàn)貨優(yōu)勢特點(diǎn)：FPA-6300ES6a掃描儀提供高生產(chǎn)力通過使用新設(shè)計(jì)的Ret...
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詳細(xì)摘要： 佳能半導(dǎo)體光刻設(shè)備-步進(jìn)式光刻機(jī)FPA-3030EX6，專用于物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備的KrF光刻機(jī)，分辨率達(dá)到150nm，可用電腦進(jìn)行遠(yuǎn)程操控
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詳細(xì)摘要： 佳能i線步進(jìn)式光刻機(jī)FPA-5550iZ2生產(chǎn)效率高，重疊精度高，能夠快速完成晶圓的測量和校準(zhǔn)，減少了晶圓處理的時間
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詳細(xì)摘要： 二手現(xiàn)貨佳能光刻機(jī)FPA-5510iX，可在50mmx50mm的大曝光場上提供0.5um的分辨率在單次曝光中曝光大視野的能力為FPA-5510iX提供了很大的優(yōu)...
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詳細(xì)摘要： 佳能二手翻新光刻機(jī)FPA-5520iV，用于高級封裝的i-line步進(jìn)器，具有支持高分辨率和大曝光場的可選陣容，現(xiàn)貨支持
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詳細(xì)摘要： 二手翻新佳能i線步進(jìn)式光刻機(jī)FPA-8000iW處理515*510mm的大型面板基板，可實(shí)現(xiàn)大封裝PLP生產(chǎn)，同時具備1.0μm的分辨率，高效靈活
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詳細(xì)摘要： AMAT沉積刻蝕設(shè)備蝕刻機(jī)P5000由半導(dǎo)體設(shè)備廠商美國應(yīng)用材料公司(AppliedMaterials）生產(chǎn)，P5000系統(tǒng)是一臺成功的以單晶片、多反應(yīng)室理念而...
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詳細(xì)摘要： 現(xiàn)有二手尼康Nikon翻新現(xiàn)貨光刻機(jī)NSR-1755i7一臺，價格大約$650,000左右，針對4寸/6寸晶圓，分辨率0.6umumLS
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詳細(xì)摘要： 光刻機(jī)NSR-2005I8A用于集成電路生產(chǎn)中的微光刻工藝
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-05-27 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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