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Sputter 磁控濺射鍍膜

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磁控濺射系統(tǒng):帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達(dá)到到8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái),支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

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