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LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)：Nano-Master兆聲大基片濕法刻蝕系統(tǒng)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離。它是集成式的...
SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...
SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該...
NIM-4000（M）離子銑刻蝕系統(tǒng)：利用離子束轟擊固體表面的濺射作用，剝離加工各種幾何圖形，通過大面積離子源產(chǎn)生的離子束，可對固體材料濺射刻蝕，對固體器件進(jìn)行...
NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕：如銅和金等金屬不含揮發(fā)性化合物，這些金屬的刻蝕無法在RIE系統(tǒng)中完成。然而通過加速的Ar離子進(jìn)行物理刻蝕則是可能的...
NRE-4000（A）全自動反應(yīng)離子刻蝕：獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝...
NMC-4000 MOVPE設(shè)備：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置（...
NLD-4000（ICPA）全自動PEALD系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過其它沉積技術(shù)。由于...
NPE-4000（ICPA）全自動ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可達(dá)6“ 基片...
NSC-4000（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)：立式自動系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺，Z大可支持到4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...
NEE-4000（A）全自動電子束蒸發(fā)系統(tǒng)：NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔配置，樣品臺位于主腔體，二級腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間的門閥作為預(yù)真空鎖...
NANO-MASTER NOC-4000進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī)提供*的技術(shù)，在一個腔體中實(shí)現(xiàn)原子級清洗和光學(xué)樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣片進(jìn)行表面涂覆...
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