詳細摘要： EVG101_勻膠機_光刻膠涂膠機基本功能：研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工,含旋涂和噴涂等工藝
產(chǎn)品型號：所在地：上海更新時間：2026-07-20 在線留言岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司
詳細摘要： EVG101_勻膠機_光刻膠涂膠機基本功能：研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工,含旋涂和噴涂等工藝
產(chǎn)品型號：所在地：上海更新時間：2026-07-20 在線留言
詳細摘要： 一、產(chǎn)品特色EVG620NT提供國家的本領(lǐng)域掩模對準技術(shù)在蕞小化的占位面積，支持高達150毫米晶圓尺寸
產(chǎn)品型號：所在地：上海更新時間：2026-07-20 在線留言
詳細摘要： EVG光刻機EVG610是一款緊湊型多功能研發(fā)系統(tǒng)，可處理零碎片和200mm的晶圓
產(chǎn)品型號：所在地：上海更新時間：2026-07-20 在線留言
詳細摘要： 特色：EVG6200NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米
產(chǎn)品型號：所在地：上海更新時間：2026-07-20 在線留言
詳細摘要： 主要用途：用于自動非接觸近距離掩模對準光刻，進行了處理和優(yōu)化，用于晶圓片的尺寸高達200毫米
產(chǎn)品型號：所在地：上海更新時間：2026-07-20 在線留言
詳細摘要： 1.晶圓烘箱烤箱應(yīng)用單個EVG105晶圓烘箱晶片烤箱烘烤模塊是專為軟或后曝光烘烤過程
產(chǎn)品型號：所在地：上海更新時間：2026-07-20 在線留言
詳細摘要： 1.簡介LITHOSCALE無掩模光刻機系統(tǒng)是一個革命性的，高度靈活的無掩模光刻曝光平臺面向容納晶片可達300毫米的各種微細加工應(yīng)用
產(chǎn)品型號：所在地：上海更新時間：2026-07-20 在線留言
詳細摘要： 1.集成光刻系統(tǒng)光刻機Track系統(tǒng)通過*集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合掩模對準和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理的高度自動化功能，*了EVG光刻機產(chǎn)品系列
產(chǎn)品型號：所在地：上海更新時間：2026-07-20 在線留言儀表網(wǎng) 設(shè)計制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
