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更新時(shí)間:2026-07-20 12:00:52瀏覽次數(shù):275次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 儀表網(wǎng)EVG101_勻膠機(jī)_光刻膠涂膠機(jī)基本功能:研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工,含旋涂和噴涂等工藝
EVG101_勻膠機(jī)_光刻膠涂膠機(jī)基本功能:研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工,含旋涂和噴涂等工藝。
一、 簡(jiǎn)介
EVG101_勻膠機(jī)_光刻膠涂膠機(jī)在單室設(shè)計(jì)上可以滿(mǎn)足研發(fā)工作,與EVG的自動(dòng)化系統(tǒng)*兼容。EVG101支持zui大300 mm的晶圓,可配置為旋涂或噴涂和顯影。使用EVG*的OmniSpray涂層技術(shù),在3D結(jié)構(gòu)晶圓上實(shí)現(xiàn)光刻膠或聚合物的共形層,用于互連技術(shù)。這確保了高粘度光致光刻膠或聚合物的低材料消耗,同時(shí)改善了均勻性并防止了擴(kuò)散。
二、EVG101勻膠機(jī)技術(shù)參數(shù):
1)晶圓尺寸:高達(dá)300mm(12寸)
2)支持模式:旋涂/ OmniSpray®/生長(zhǎng)
3)晶圓支撐模式:?jiǎn)伪?雙EE/邊緣/翻動(dòng)
4)分配模式:
- 各種分配泵,可覆蓋高達(dá)52000cP的各種粘度
- 恒壓分配系統(tǒng)
- EBR / BSR /預(yù)濕/碗洗/液體灌注

圖1 噴涂結(jié)果
三、EVG101勻膠機(jī)特征:
1)晶圓尺寸可達(dá)300 mm
2)自動(dòng)旋涂或噴涂或使用手動(dòng)晶圓裝載/卸載進(jìn)行顯影
3)利用從研究到生產(chǎn)的快速簡(jiǎn)便的過(guò)程轉(zhuǎn)換
4)成熟的模塊化設(shè)計(jì)和標(biāo)準(zhǔn)化軟件
5)注射器分配系統(tǒng),用于利用小的光刻膠體積,包括高粘度光刻膠
6)占地面積小,同時(shí)保持高水平的個(gè)人和過(guò)程安全性
7)多用戶(hù)概念(無(wú)限數(shù)量的用戶(hù)帳戶(hù)和程序,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶(hù)界面語(yǔ)言)
8)選項(xiàng):
- 采用OmniSpray®涂層技術(shù)均勻涂覆晶圓的高表面形貌
- 用于后續(xù)鍵合工藝的蠟和環(huán)氧樹(shù)脂涂層
- 旋涂玻璃(SOG)涂層

圖2 噴涂形成的金屬結(jié)構(gòu)
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