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FR-ES:精簡膜厚測量儀

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地上海

聯(lián)系方式:卜先生查看聯(lián)系方式

更新時間:2026-07-20 09:59:46瀏覽次數(shù):309次

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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:100條

所在地區(qū):上海上海

聯(lián)系人:卜先生

產(chǎn)品簡介

FR-ES:精簡薄膜厚度測量特性分析系統(tǒng)FR-ES是一款輕巧便捷膜厚測量分析系統(tǒng)

詳細(xì)介紹

FR-ES: 精簡薄膜厚度測量特性分析系統(tǒng)

FR-ES是一款輕巧便捷膜厚測量分析系統(tǒng)。 使用FR-ES,用戶可以在370-1020nm光譜范圍內(nèi)進(jìn)行反射率和透射率測量。

1、膜厚儀應(yīng)用
o 大學(xué) & 研究實驗室
o 半導(dǎo)體
o 聚合物和光刻膠 厚度測量
o 化學(xué)測量
o 介電材料膜厚度測量
o 生物醫(yī)學(xué)
o 硬涂層,陽極氧化, 金屬零件加工
o 光學(xué)鍍膜
o 非金屬薄膜
o 還有更多…(請聯(lián)系我們提出您的應(yīng)用)

FR-ES機(jī)型提供出色的膜厚測量分析性能??捎糜诟鞣N不同的應(yīng)用,例如:薄膜厚度、折射率、顏色、透射率、反射率等等.

FR-ES機(jī)型提供三種波長范圍配置:VIS/NIR (370- 1020nm, NIR-N1 (850-1050nm), NIR (900-1700nm).

這里有很多可選的配件:

  • 濾光片可阻擋某些光譜范圍內(nèi)的光
  • FR-Mic提供微米級別區(qū)域進(jìn)行測量
  • 手動載物臺, 100x100mm或 200x200mm
  • 薄膜/比色皿支架用于吸光度/透射率和化學(xué)濃度測量的薄膜/比色皿支架
  • 積分球積分球用于漫反射和全反射反射率測量

通過不同模塊的組合設(shè)置滿足任何蕞終用戶的需求。

2、特征

o 單擊分析(無需初始值)

o 動態(tài)測量連續(xù)測量

o n & k、色座標(biāo)測量

o 保存測量的圖像和視頻

o Multiple installationsfor off-line analysis

o 免廢軟件更新

3、FR-ES規(guī)格(標(biāo)準(zhǔn)配置)

機(jī)型

VIS/NIR

NIR

NIR-N1

WL Range -nm Pixels

Min Thick -SiO2 Max Thick SiO2 Max Thick -Si

n&k -Min. Thickness Thick. Accuracy *,** Thick. Precision*,**

Thick. stability *,**

370 –1020

3648

12nm 100um


100nm 1nm / 0.2% 0.05nm

0.05nm

900 – 1700

512

50nm 250um


500nm 3nm / 0.4% 0.1nm

0.15nm

850-1050

3648

1um 500um 300um


50nm / 0.2%

Light Source Integration Time Spot size

Material Database Dimensions/Weight

Power

Halogen (internal), 10000h (MTBF)

5msec (min)

Diameter of 350um (smaller spot size as option)

> 700 different materials 20x22x6cm (LxWxH), 1.8Kg (stage excluded)

110V/230V, 50-60Hz, 10W

4、配件

計算機(jī)

筆記本電腦/觸摸屏PC,19英寸屏幕

聚焦模塊

安裝在反射探頭上的光學(xué)模塊,用于直徑<100μm的光斑尺寸

膜厚/比色皿套件

標(biāo)準(zhǔn)比色皿中的薄膜或液體進(jìn)行透射測量

接觸探頭

曲面樣品的反射率和厚度測量,具有高橫向分辨率的基于顯微鏡的反射率和厚度測量

顯微鏡

用于測量涂層和表面的鏡面反射和漫反射

積分球sphere

手動X-Y平臺,用于測量100mm x 100mm或200mm x 200mm的區(qū)域


FR-ES 膜厚測量儀 部件.jpg

FR-ES 膜厚測量儀 部件2.jpg

5、膜厚測量儀工作原理

白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經(jīng)多層或單層薄膜反射后,經(jīng)各層薄膜介面界面干涉產(chǎn)生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學(xué)常數(shù)。

*規(guī)格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代裱光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為1.5 的單層膜測量厚度

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