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更新時間：2023-01-14 07:34:42瀏覽次數(shù)：815次
聯(lián)系我時，請告知來自 儀表網(wǎng)磁控濺射是物理氣相沉積技術(shù)(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一種
磁控濺射是物理氣相沉積技術(shù)(Physical Vapor Deposition, PVD)的一種。一般用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等薄膜材料，具有設(shè)備簡單、易于控制、效率高，面積大等優(yōu)點。
磁控濺射原理：通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。
技術(shù)參數(shù)：
1 本底真空：10-7Torr到10-9Torr；
2 單基片設(shè)計，尺寸可定制，常規(guī)尺寸2-6英寸；
3 基片可旋轉(zhuǎn)并加熱：300℃/500℃/800℃；
4 最多可拓展8支磁控濺射靶槍，可共濺射；
5 靶槍角度可調(diào)，濺鍍距離可調(diào)，可升級強磁靶；
6 可選配多路氣路；
7 防交叉污染隔板設(shè)計；
8 可配備離子束輔助沉積；
9 可配備樣品預(yù)清洗功能；
10 可配備快速進樣室；
11 可配備自動壓力控制系統(tǒng)；
12 全自動操作系統(tǒng)；
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