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更新時(shí)間：2023-01-14 07:40:40瀏覽次數(shù)：756次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 儀表網(wǎng)立式線性連續(xù)磁控濺射適用于大尺寸基板產(chǎn)品的研發(fā)及生產(chǎn)，設(shè)備由進(jìn)樣室，濺鍍室，出樣室和基片傳遞機(jī)構(gòu)組成，可實(shí)現(xiàn)連續(xù)鍍膜，廣泛應(yīng)用于顯示器件及光伏電池薄膜的開發(fā)及生產(chǎn)
立式線性連續(xù)磁控濺射適用于大尺寸基板產(chǎn)品的研發(fā)及生產(chǎn)，設(shè)備由進(jìn)樣室，濺鍍室，出樣室和基片傳遞機(jī)構(gòu)組成，可實(shí)現(xiàn)連續(xù)鍍膜，廣泛應(yīng)用于顯示器件及光伏電池薄膜的開發(fā)及生產(chǎn)。矽基具備豐富的工業(yè)級(jí)大尺寸設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，目前在廣東及北京地區(qū)均有線性連續(xù)磁控濺射設(shè)備銷售實(shí)績(jī)。
技術(shù)參數(shù)：
1 本底真空10-7 Torr；
2 基片尺寸：490x390 mm (玻璃基片)；
3 基片直立傳送，傳送速度可調(diào)節(jié)；
4 基片可加熱至400℃；
5 濺鍍室數(shù)量可自由拓展；
6 20英寸基片內(nèi)鍍膜均勻性優(yōu)于 ±3%；
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