詳細摘要： 氧化爐應用于大規(guī)模集成電路、電力電子器件、光電子器件、半導體器件、光導纖維及太陽能電池等行業(yè)的氧化、擴散、燒結、合金等工藝，可用于3-12英寸工藝尺寸。
產品型號：所在地：青島市更新時間：2026-06-05 在線留言
青島晨立電子有限公司
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詳細摘要： 氧化爐應用于大規(guī)模集成電路、電力電子器件、光電子器件、半導體器件、光導纖維及太陽能電池等行業(yè)的氧化、擴散、燒結、合金等工藝，可用于3-12英寸工藝尺寸。
產品型號：所在地：青島市更新時間：2026-06-05 在線留言
詳細摘要： 半導體退火爐 硅片退火爐 供大規(guī)模集成電路、MEMS 生產線用做6“硅片的合金、氧化、退火、燒結、擴散等工藝使用。同時也可下沉工藝，完成4寸wafer 的相應工...
產品型號：所在地：青島市更新時間：2025-07-25 在線留言
詳細摘要： 科研爐是半導體加工中的典型熱處理設備，用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件、光導纖維等行業(yè)中進行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。 科研設備 科研...
產品型號：所在地：青島市更新時間：2025-06-27 在線留言
詳細摘要： 臥式6寸兩管擴散爐供大規(guī)模集成電路、MEMS 生產線用做6“硅片的合金、氧化、退火、燒結、擴散等工藝使用。同時也可下沉工藝，完成4寸wafer 的相應工藝。
產品型號：所在地：青島市更新時間：2025-06-27 在線留言
詳細摘要： 高真空退火爐半導體退火爐供大規(guī)模集成電路、MEMS 生產線用做6“硅片的合金、氧化、退火、燒結、擴散等工藝使用。同時也可下沉工藝，完成4寸wafer 的相應工藝...
產品型號：所在地：青島市更新時間：2025-06-27 在線留言
詳細摘要： 碳化硅氧化爐 真空退火爐 高溫擴散爐 ★可處理硅片尺寸：2—8英寸★外型形式：臥式1—4管結構★工作溫度：200℃—1300℃★恒溫區(qū)長度及精度：200mm—1...
產品型號：所在地：青島市更新時間：2025-06-27 在線留言
詳細摘要： SIC高溫氧化爐-氧化擴散爐-科研氧化爐擴散爐系列設備用途：用于大規(guī)模集成電路、太陽能電池片、電力電子、光 電器件、光導纖維等行業(yè)的氧化、擴散、燒結、合金等工藝...
產品型號：所在地：青島市更新時間：2025-06-27 在線留言
詳細摘要： 高溫擴散爐應用于大規(guī)模集成電路、電力電子器件、光電子器件、半導體器件、光導纖維及太陽能電池等行業(yè)的氧化、擴散、燒結、合金等工藝，可用于3-12英寸工藝尺寸。
產品型號：所在地：青島市更新時間：2023-07-22 在線留言
詳細摘要： 高溫氧化爐應用于大規(guī)模集成電路、電力電子器件、光電子器件、半導體器件、光導纖維及太陽能電池等行業(yè)的氧化、擴散、燒結、合金等工藝，可用于3-12英寸工藝尺寸。
產品型號：所在地：青島市更新時間：2023-07-22 在線留言
詳細摘要： 科研爐實驗爐應用于大規(guī)模集成電路、電力電子器件、光電子器件、半導體器件、光導纖維及太陽能電池等行業(yè)的氧化、擴散、燒結、合金等工藝，可用于3-12英寸工藝尺寸。
產品型號：所在地：青島市更新時間：2023-07-21 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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