詳細(xì)摘要： EVG 610 光刻機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、光電、生物醫(yī)療等領(lǐng)域，在生產(chǎn)精密電子元件、微型機(jī)械元件和光學(xué)元件等方面有著廣泛的應(yīng)用。
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：上海更新時(shí)間：2024-08-12 在線留言上海德竹芯源科技有限公司
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上海德竹芯源科技有限公司
詳細(xì)摘要： EVG 610 光刻機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、光電、生物醫(yī)療等領(lǐng)域，在生產(chǎn)精密電子元件、微型機(jī)械元件和光學(xué)元件等方面有著廣泛的應(yīng)用。
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詳細(xì)摘要： EVG 620NT 光刻機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、光電、生物醫(yī)療等領(lǐng)域，用于生產(chǎn)精密電子元件、微型機(jī)械元件和光學(xué)元件等。
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詳細(xì)摘要： EVG 510 是一款高效率的微結(jié)構(gòu)光刻機(jī)。主要用于多層芯片制造，特別適用于需要高精度、高效率、低成本和高產(chǎn)量的高科技領(lǐng)域。
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詳細(xì)摘要： EVG 520IS 是一款高效的芯片鍵合系統(tǒng)，這種系統(tǒng)是一種高效、靈活的解決方案，用于提供高精度的晶元鍵合以及片上結(jié)構(gòu)，以滿足微電子制造的需求。它的特點(diǎn)是采用高...
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詳細(xì)摘要： EVG 的 805 解鍵合系統(tǒng)是一種高效的解鍵合解決方案，用于制造各種微電子器件，特別適用于高頻、高功率等特殊需求。
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詳細(xì)摘要： EVG 620BA 對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)是 EVG 公司生產(chǎn)的一種光學(xué)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。主要用于幫助用戶精確地對(duì)齊樣品，以確保高質(zhì)量的光學(xué)處理。EVG 620BA 對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)具有高精...
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詳細(xì)摘要： HP-150熱板應(yīng)用于光刻、MEMS 或相似工藝中，為提供精準(zhǔn)的前烘和后烘工藝而存在。溫度范圍默認(rèn)可達(dá)到 250°C。設(shè)定溫度與實(shí)際溫度之間幾乎無偏差，可達(dá)到非...
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詳細(xì)摘要： HP-200 熱板應(yīng)用于光刻、MEMS 或相似工藝中，為提供精準(zhǔn)的前烘和后烘工藝而存在。溫度范圍默認(rèn)可以達(dá)到 250°C。設(shè)定溫度與實(shí)際溫度之間幾乎無偏差，可達(dá)...
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詳細(xì)摘要： SM-150 是手動(dòng)或半自動(dòng)薄膜涂覆的優(yōu)選，適用于表面沒有或有非常低形貌的基板涂膠作業(yè)。大多光刻膠與涂層材料都可被均勻涂覆到尺寸為150 mm (6")的晶圓或...
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詳細(xì)摘要： 半自動(dòng)勻膠機(jī) SM-200 可處理沒有或表面結(jié)構(gòu)非常低的襯底。SM系列，擁有高水平的均勻性和重復(fù)性。所有商業(yè)光阻劑都可被均勻涂布。針對(duì)多種多樣的應(yīng)用設(shè)計(jì)的專用卡...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：上海更新時(shí)間：2024-08-11 在線留言
詳細(xì)摘要： 針對(duì)具備高度結(jié)構(gòu)化晶圓形貌、深度 MEMS 結(jié)構(gòu)或不平整表面特征的基板，SAWATEC 公司的 iSPRAY-300 能確保盡可能均勻的噴涂效果。它是一款精密的...
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詳細(xì)摘要： 對(duì)曝光后的光刻膠進(jìn)行顯影是很關(guān)鍵的一步，因此需要謹(jǐn)慎選擇顯影工藝和顯影劑。半自動(dòng)顯影機(jī) SMD-200 可保證即使再厚的膠層均可實(shí)現(xiàn)高超的顯影工藝效果，低化藥消...
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詳細(xì)摘要： SM-200/HP-200 組合式系統(tǒng) SAWATEC 的 SM-200/HP-200 是由 SM-200 勻膠和 HP-200 熱板組成的一個(gè)緊湊的柜式機(jī)，這...
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詳細(xì)摘要： Depolab 200 是 SENTECH 開發(fā)的高性價(jià)比等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備，它結(jié)合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設(shè)計(jì)和直接載片的成本效...
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詳細(xì)摘要： SI 500 D 是基于平行板三螺旋天線（PTSA）設(shè)計(jì)的平行板電極式電感耦合等離子體化學(xué)氣相沉積（ICP-CVD）設(shè)備，PTSA射頻等離子體源可有效地提高等離...
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詳細(xì)摘要： SI 500 PPD 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)采用經(jīng)典平行板電極設(shè)計(jì)，兼容低溫沉積工藝。
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詳細(xì)摘要： SI 500 基于 ICP 等離子體源 PTSA，動(dòng)態(tài)溫度控制的襯底電極，全自動(dòng)控制的真空系統(tǒng)，使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)的的 SENTECH 控制軟件和用于操作 S...
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詳細(xì)摘要： Etchlab 200 RIE 等離子刻蝕機(jī)代表了直接置片等離子刻蝕機(jī)家族，它結(jié)合了 RIE 的平行板電極設(shè)計(jì)和直接置片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)。
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詳細(xì)摘要： 靈活性、模塊性和占地面積小是 SI 591 的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。
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詳細(xì)摘要： SENTECH 多腔系統(tǒng)包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預(yù)真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機(jī)械手臂，可適用于三至六個(gè)端口。可使用多達(dá)兩個(gè)片盒站來增加產(chǎn)量...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：上海更新時(shí)間：2024-08-11 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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