詳細(xì)摘要： NMC 508RIE介質(zhì)刻蝕機(jī)為電容耦合等離子體干法刻蝕機(jī)，適用6/8英寸介質(zhì)層刻蝕工藝，具有高刻蝕速率和均勻性，工藝類(lèi)型覆蓋前道和后道所有介質(zhì)刻蝕。該機(jī)臺(tái)為多...
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華兆科技（廣州）有限公司
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華兆科技（廣州）有限公司
經(jīng)營(yíng)模式：經(jīng)銷(xiāo)商
商鋪產(chǎn)品：85條
所在地區(qū)：廣東廣州市
聯(lián)系人：李光照 （經(jīng)理）
詳細(xì)摘要： NMC 508RIE介質(zhì)刻蝕機(jī)為電容耦合等離子體干法刻蝕機(jī)，適用6/8英寸介質(zhì)層刻蝕工藝，具有高刻蝕速率和均勻性，工藝類(lèi)型覆蓋前道和后道所有介質(zhì)刻蝕。該機(jī)臺(tái)為多...
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詳細(xì)摘要： NMC 508M金屬刻蝕機(jī)為高密度等離子體刻蝕機(jī)，適用6/8英寸金屬干法刻蝕工藝。具備良好的鋁線(xiàn)形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優(yōu)勢(shì)。...
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詳細(xì)摘要： NMC 508CG多晶硅刻蝕機(jī)為高密度等離子體刻蝕機(jī)，適用6/8英寸多晶硅、硅等干法刻蝕工藝。具備良好的形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性...
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詳細(xì)摘要： eVictor PVD Al金屬鋁薄膜物理氣相沉積系統(tǒng)，適用于12英寸集成電路領(lǐng)域，是一款PVD設(shè)備。該系統(tǒng)集成高溫去氣、等離子體預(yù)清洗、高溫Al、TaN、TT...
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詳細(xì)摘要： Polaris Series硅通孔物理氣相沉積系統(tǒng)主要由大氣平臺(tái)，真空傳輸平臺(tái)，去氣腔室，預(yù)清潔腔室和工藝腔室組成，設(shè)備采用Cluster Tool結(jié)構(gòu)，可配置...
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詳細(xì)摘要： eVictor Series 8英寸物理氣相沉積系統(tǒng)主要用于8英寸晶圓金屬薄膜沉積工藝。該機(jī)臺(tái)為多腔室前后雙平臺(tái)結(jié)構(gòu)，可支持10個(gè)工藝模塊，能夠進(jìn)行全自動(dòng)工藝處...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2026-09-20 在線(xiàn)留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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