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適用范圍:貴金屬厚膜燒制
一、應(yīng)用領(lǐng)域:電子陶瓷、結(jié)構(gòu)陶瓷、片容、片感、磁性材料、微波鐵氧體、粉末冶金材料、稀土材料、壓敏電阻、濾波器燒結(jié)和其他高溫空氣氣氛應(yīng)用二、特點:1.*爐膛與氣氛...
一、應(yīng)用領(lǐng)域:電子陶瓷、結(jié)構(gòu)陶瓷、片容、片感、磁性材料、微波鐵氧體、粉末冶金材料、稀土材料、壓敏電阻、濾波器燒結(jié)和其他高溫空氣氣氛應(yīng)用二、特點:1.*爐膛與氣氛...
一、設(shè)備名稱、型號:12寸晶圓自動管式爐二、系統(tǒng)組成2
應(yīng)用領(lǐng)域:電子陶瓷、片容、片感、磁性材料、粉末冶金材料、微波鐵氧體、稀土材料特點:1
適用范圍:銅厚膜燒制、金屬氧化、金屬釬焊、金屬與玻璃密封、玻璃薄膜退火的研究、其他高溫特殊氣氛應(yīng)用特點:1
典型應(yīng)用領(lǐng)域:磁性材料、電子陶瓷材料(MLCC、MLCI、低溫共燒陶瓷LTCC等)應(yīng)用領(lǐng)域:電子陶瓷、片容、片感、磁性材料、粉末冶金材料、微波鐵氧體、稀土材料特...
適用范圍:貴金屬厚膜燒制
應(yīng)用領(lǐng)域:針對厚膜電路、太陽能電池片、電子元件、其他含游離/結(jié)晶態(tài)水物質(zhì)等產(chǎn)品中水分、有機(jī)溶劑的低溫烘干、固化工藝
產(chǎn)品介紹:真空烤盤爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體,爐內(nèi)抽真空,被處理工件放置在爐膛內(nèi),采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)
應(yīng)用領(lǐng)域:磁性材料、微波鐵氧體、粉末冶金材料、稀土材料、鋰電正負(fù)極材料、其他高溫空氣氣氛應(yīng)用特點:1.設(shè)備產(chǎn)能大,節(jié)約場地及耗能
應(yīng)用領(lǐng)域:磁性材料、微波鐵氧體、粉末冶金材料、稀土材料、鋰電正負(fù)極材料、其他高溫處理及超容碳的活化工藝等產(chǎn)品特點:1.粉體材料更好的與產(chǎn)品進(jìn)行氣體反應(yīng)
應(yīng)用領(lǐng)域:貴金屬厚膜燒制、低溫共燒陶瓷(LTCC)、混合集成電路、銀漿料燒結(jié)、玻璃薄膜退火的研究、其他高溫空氣氣氛應(yīng)用特點:1
應(yīng)用領(lǐng)域:貴金屬厚膜燒制、低溫共燒陶瓷(LTCC)、混合集成電路、銀漿料燒結(jié)、玻璃薄膜退火的研究、其他高溫空氣氣氛應(yīng)用特點:1
應(yīng)用領(lǐng)域:貴金屬厚膜燒制、低溫共燒陶瓷(LTCC)、混合集成電路、銀漿料燒結(jié)、玻璃薄膜退火的研究、其他高溫空氣氣氛應(yīng)用特點:1
應(yīng)用領(lǐng)域:針對厚膜電路、太陽能電池片、電子元件、其他含游離/結(jié)晶態(tài)水物質(zhì)等產(chǎn)品中水分、有機(jī)溶劑的低溫烘干、固化工藝
適用范圍:銅厚膜燒制、金屬氧化、金屬釬焊、金屬與玻璃密封、玻璃薄膜退火的研究、其他高溫特殊氣氛應(yīng)用特點:1
典型應(yīng)用領(lǐng)域:磁性材料、電子陶瓷材料(MLCC、MLCI、低溫共燒陶瓷LTCC等)應(yīng)用領(lǐng)域:電子陶瓷、片容、片感、磁性材料、粉末冶金材料、微波鐵氧體、稀土材料特...
適用范圍:銅厚膜燒制、金屬氧化、金屬釬焊、金屬與玻璃密封、玻璃薄膜退火的研究、其他高溫特殊氣氛應(yīng)用特點:1
適用范圍:銅厚膜燒制、金屬氧化、金屬釬焊、金屬與玻璃密封、玻璃薄膜退火的研究、其他高溫特殊氣氛應(yīng)用特點:1
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