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芯片漏電分析手段被誤導(dǎo)了很多年

時(shí)間:2018-8-29閱讀:1038
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芯片漏電分析手段被誤導(dǎo)了很多年

一提到IC漏電電定位大家都認(rèn)為只有OBRICH,甚至現(xiàn)在可笑的是認(rèn)為OBRICH是一種設(shè)備的名稱。今天小編給大家普及一下這方面的知識(shí)。

OBRICH其實(shí)只是一種技術(shù),是早年日本NEC發(fā)明并申請(qǐng)了zhuan利。它的原理是:給IC加上電壓,使其內(nèi)部有微小電流流過(guò),同時(shí)在芯片表面用激光進(jìn)行掃描。

激光掃描的同時(shí),對(duì)微小電流進(jìn)行監(jiān)測(cè),當(dāng)激光掃到某個(gè)位置,電流發(fā)生較大變化,設(shè)備對(duì)這個(gè)點(diǎn)進(jìn)行標(biāo)記,也就是說(shuō)這個(gè)位置即為失效點(diǎn)。

TIVA是美國(guó)人和NEC同期發(fā)明的zhuan利,和OBRICH同等的技術(shù),現(xiàn)在美國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一直在用。TIVA的原理是:給IC加上一個(gè)微小電流流過(guò),同時(shí)在芯片表面用激光進(jìn)行掃描。激光掃描的同時(shí),對(duì)IC兩端電壓進(jìn)行監(jiān)測(cè),當(dāng)激光掃到某個(gè)位置,電壓發(fā)生較大變化,設(shè)備對(duì)這個(gè)點(diǎn)進(jìn)行標(biāo)記,也就是說(shuō)這個(gè)位置即為失效點(diǎn)。

OBRICH是加電壓監(jiān)測(cè)電流變化,TIVA是加電流監(jiān)測(cè)電壓變化??傊磻?yīng)出來(lái)的都是IC內(nèi)部阻抗的變化。簡(jiǎn)單講就是激光掃描到某點(diǎn)引起了阻抗的明顯變化,這個(gè)位置就是失效點(diǎn)。新加坡也有一種技術(shù)較VBA(加電壓監(jiān)測(cè)電壓變化)也是同理。

再次提醒各位,OBRICH、TIVA、VBA都不是設(shè)備名稱,只是一種技術(shù)而已。這臺(tái)設(shè)備的準(zhǔn)確名稱叫激光誘導(dǎo)定位系統(tǒng)。

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