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美國 KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列

上海伯東美國*考夫曼

離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強設(shè)計輸出高質(zhì)量,穩(wěn)定的電子流.

美國 KRI 考夫曼公司新升級 Gridded KDC 系列離子源, 新的特性包含自對準離子光學和開關(guān)式電源控制. 考夫曼

離子源 KDC 系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應(yīng)用. 考夫曼離子源 KDC 提供一套完整的方案包含考夫曼離子源, 電子中和器, 電源供應(yīng)器等等可以直接整合在各類真空設(shè)備中, 例如實驗室小型研發(fā), 鍍膜機, load lock, 濺射系統(tǒng), 卷繞鍍膜機和線性鍍膜.

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 特性：

通過加熱燈絲產(chǎn)生電子

低電流高能量寬束型離子源

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 應(yīng)用：

輔助鍍膜(光學鍍膜) IBAD

濺鍍&蒸鍍 PC

表面改性, 激活 SM

沉積 DD

離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD

離子蝕刻 IBE

美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 技術(shù)參數(shù)：

KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列, 柵極燈絲型離子源, 通過加熱燈絲產(chǎn)生電子, 提供低電流高能量離子束. 離子束可選聚焦,平行, 散設(shè)三種方式, KDC 系列離子源適用于離子濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC, 輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD, 表面改性, 激活 SM, 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD, 離子蝕刻 IBE 等.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)

考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.

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