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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

位于中國(guó)上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)（上海）有限公司創(chuàng)建于1995年12月，, 是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè)，公司注冊(cè)資金為200萬(wàn)美元，到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)（上海）有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專(zhuān)業(yè)銷(xiāo)售及維修德國(guó)Pfeiffer單雙級(jí)旋片泵，干泵，羅茨泵，分子泵；應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管)；檢漏儀，質(zhì)譜儀，真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚，保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國(guó)Pfeiffer原廠測(cè)試設(shè)備及調(diào)整工具和德國(guó)Pfeiffer專(zhuān)業(yè)培訓(xùn)工程師，多年來(lái)致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等，具有優(yōu)良的專(zhuān)業(yè)技能和服務(wù)意識(shí)，并獲得原廠*維修資質(zhì)證書(shū)。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測(cè)設(shè)備對(duì)維修后的產(chǎn)品做*性能測(cè)試。

另外公司還是美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 德國(guó) 普發(fā) Pfeiffer 真空設(shè)備, 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 日本 NS 離子蝕刻機(jī), 美國(guó) HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) Gel-pak 芯片包裝盒,比利時(shí)Europlasma 等離子表面處理機(jī) , 日本 Atonarp過(guò)程質(zhì)譜儀和美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進(jìn)口品牌的指定代理商 .我們真誠(chéng)期待與您的合作!

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢(xún)價(jià)

產(chǎn)地	進(jìn)口	加工定制	否

上海伯東代理美國(guó)* KRI 考夫曼離子源 KDC 100 中型規(guī)格柵極離子源, 廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產(chǎn)設(shè)備中, 考夫曼離子源 KDC 100 采用雙陰極燈絲和自對(duì)準(zhǔn)柵極, 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過(guò) 400 mA.

上海伯東代理 KRI 考夫曼離子源 KDC 100 產(chǎn)品詳情

價(jià)格電議

KRI 考夫曼離子源 KDC 100

上海伯東代理美國(guó)* KRI 考夫曼

離子源 KDC 100 中型規(guī)格柵極離子源, 廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產(chǎn)設(shè)備中, 考夫曼離子源 KDC 100 采用雙陰極燈絲和自對(duì)準(zhǔn)柵極, 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過(guò) 400 mA.

KRI 考夫曼離子源 KDC 100 技術(shù)參數(shù)：

型號(hào)	KDC 100
供電	DC magnetic confinement
- 陰極燈絲	2
- 陽(yáng)極電壓	0-100V DC
電子束	OptiBeam™
- 柵極	, 自對(duì)準(zhǔn)
-柵極直徑	12 cm
中和器	燈絲
電源控制	KSC 1212
配置	-
- 陰極中和器	Filament, Sidewinder Filament 或LFN 2000
- 安裝	移動(dòng)或快速法蘭
- 高度	9.25'
- 直徑	7.6'
- 離子束	聚焦平行散設(shè)
-加工材料	金屬電介質(zhì) 半導(dǎo)體
-工藝氣體	惰性活性混合
-安裝距離	8-36”
- 自動(dòng)控制	控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架

KRI 考夫曼離子源 KDC 100 應(yīng)用領(lǐng)域：

濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD

表面改性, 激活 SM

離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD

離子蝕刻 IBE

KRI 考夫曼

離子源 Gridded KDC 系列, 柵極燈絲型離子源, 通過(guò)加熱燈絲產(chǎn)生電子, 提供低電流高能量離子束. 離子束可選聚焦,平行, 散設(shè)三種方式, KDC 系列離子源適用于離子濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC, 輔助鍍膜 ( 光學(xué)鍍膜 ) IBAD, 表面改性, 激活 SM, 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD, 離子蝕刻 IBE 等.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)

考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng). 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源 (離子槍) 中國(guó)總代理.

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上海伯東 : 羅先生

關(guān)鍵詞：標(biāo)準(zhǔn)

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產(chǎn)品名稱(chēng)	參考價(jià)	地區(qū)	公司名稱(chēng)	更新時(shí)間
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