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上海伯東代理美國進口考夫曼離子源 KDC 75

參考價訂貨量

¥600000

≥1 臺

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地國外
  • 更新時間2025-10-25
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值10347
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         位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會社獨資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
         伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國Pfeiffer原廠測試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識,并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設(shè)備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。

          另外公司還是美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 德國 普發(fā) Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國  KRI 考夫曼離子源, 日本  NS 離子蝕刻機, 美國  HVA 真空閥門, 美國  Gel-pak 芯片包裝盒,比利時Europlasma 等離子表面處理機 , 日本  Atonarp過程質(zhì)譜儀  和  美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備 等進口品牌的指定代理商 .我們真誠期待與您的合作!



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產(chǎn)地進口 加工定制否
上海伯東代理美國* KRI 考夫曼離子源 KDC 75:緊湊柵極離子源,離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭. 適用于中小型腔內(nèi), 考夫曼離子源 KDC 75 包含2個陰極燈絲, 其中一個作為備用,KDC 75 提供緊密聚焦的電子束特別適合濺射鍍膜. 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 250 mA.
上海伯東代理美國進口考夫曼離子源 KDC 75 產(chǎn)品詳情

價格電議

KRI 考夫曼離子源 KDC 75

上海伯東代理美國* KRI 考夫曼離子源 KDC 75:緊湊柵極離子源,離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭. 適用于中小型腔內(nèi), 考夫曼離子源 KDC 75 包含2個陰極燈絲, 其中一個作為備用,KDC 75 提供緊密聚焦的電子束特別適合濺射鍍膜. 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 250 mA.

KRI 考夫曼離子源 KDC 75 技術(shù)參數(shù)

型號

KDC 75 / KDC 75L(低電流輸出)

供電

DC magnetic confinement

- 陰極燈絲

2

- 陽極電壓

0-100V DC

電子束

OptiBeam™

- 柵極

, 自對準(zhǔn)

-柵極直徑

7.5 cm

中和器

燈絲

電源控制

KSC 1212 或 KSC 1202

配置

-

- 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

- 安裝

移動或快速法蘭

- 高度

7.9'

- 直徑

5.5'

- 離子束

聚焦

平行

散設(shè)

-加工材料

金屬

電介質(zhì)

半導(dǎo)體

-工藝氣體

惰性

活性

混合

-安裝距離

6-24”

- 自動控制

控制4種氣體

* 可選: 一個陰極燈絲; 可調(diào)角度的支架

KRI 考夫曼離子源 KDC 75 應(yīng)用領(lǐng)域

濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD

表面改性, 激活 SM

離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD

離子蝕刻 IBE


客戶案例: 超高真空離子刻蝕機 IBE, 真空度 5E-10 torr, 系統(tǒng)配置
美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 75
<strong>考夫曼離子源 KDC 75</strong>

KRI 考夫曼

離子源 Gridded KDC 系列, 柵極燈絲型離子源, 通過加熱燈絲產(chǎn)生電子, 提供低電流高能量離子束. 離子束可選聚焦,平行, 散設(shè)三種方式, KDC 系列離子源適用于離子濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC, 輔助鍍膜 ( 光學(xué)鍍膜 ) IBAD, 表面改性, 激活 SM, 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD, 離子蝕刻 IBE 等.
考夫曼離子源 KDC 75

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)

考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.

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上海伯東 : 羅先生                               中國臺灣伯東 : 王小姐



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