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上海伯東代理 KRI 考夫曼離子源 KDC 40

參考價(jià)訂貨量

¥480000

≥1 臺

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地國外
  • 更新時(shí)間2025-10-25
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 所在地區(qū)上海市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值10430
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         位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
         伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測量(真空計(jì), 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術(shù)力量雄厚,保證 100 % 擁有標(biāo)準(zhǔn)的德國Pfeiffer原廠測試設(shè)備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓(xùn)工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機(jī)、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務(wù)意識,并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進(jìn)口檢測設(shè)備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。

          另外公司還是美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 德國 普發(fā) Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國  KRI 考夫曼離子源, 日本  NS 離子蝕刻機(jī), 美國  HVA 真空閥門, 美國  Gel-pak 芯片包裝盒,比利時(shí)Europlasma 等離子表面處理機(jī) , 日本  Atonarp過程質(zhì)譜儀  和  美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備 等進(jìn)口品牌的指定代理商 .我們真誠期待與您的合作!



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產(chǎn)地進(jìn)口 加工定制否
上海伯東代理美國* KRI 考夫曼離子源 KDC 40: 小型低成本直流柵極離子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型離子源升級款. 具有更大的柵極, 更堅(jiān)固, 可以配置自對準(zhǔn)第三層?xùn)艠O. 離子源 KDC 40 適用于所有的離子工藝, 例如預(yù)清洗, 表面改性, 輔助鍍膜, 濺射鍍膜, 離子蝕刻和沉積. 離子源 KDC 40 兼容惰性或活性氣體, 例如氧氣和氮?dú)? 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 1
上海伯東代理 KRI 考夫曼離子源 KDC 40 產(chǎn)品詳情

價(jià)格電議

KRI 考夫曼離子源 KDC 40

上海伯東代理美國* KRI 考夫曼

離子源 KDC 40: 小型低成本直流柵極離子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型離子源升級款. 具有更大的柵極, 更堅(jiān)固, 可以配置自對準(zhǔn)第三層?xùn)艠O. 離子源 KDC 40 適用于所有的離子工藝, 例如預(yù)清洗, 表面改性, 輔助鍍膜, 濺射鍍膜, 離子蝕刻和沉積. 離子源 KDC 40 兼容惰性或活性氣體, 例如氧氣和氮?dú)? 標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 120 mA.

KRI 考夫曼離子源 KDC 40 技術(shù)參數(shù)

型號

KDC 40

供電

DC magnetic confinement

- 陰極燈絲

1

- 陽極電壓

0-100V DC

電子束

OptiBeam™

- 柵極

, 自對準(zhǔn)

-柵極直徑

4 cm

中和器

燈絲

電源控制

KSC 1202

配置

-

- 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

- 架構(gòu)

移動(dòng)或快速法蘭

- 高度

6.75'

- 直徑

3.5'

- 離子束

集中

平行

散設(shè)

-加工材料

金屬

電介質(zhì)

半導(dǎo)體

-工藝氣體

惰性

活性

混合

-安裝距離

6-18”

- 自動(dòng)控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架


KRI 考夫曼離子源 KDC 40 應(yīng)用領(lǐng)域

濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD

表面改性, 激活 SM

離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD

離子蝕刻 IBE


KRI 考夫曼

離子源 Gridded KDC 系列, 柵極燈絲型離子源, 通過加熱燈絲產(chǎn)生電子, 提供低電流高能量離子束. 離子束可選聚焦,平行, 散設(shè)三種方式, KDC 系列離子源適用于離子濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC, 輔助鍍膜 ( 光學(xué)鍍膜 ) IBAD, 表面改性, 激活 SM, 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD, 離子蝕刻 IBE 等.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)

考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng). 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.

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上海伯東 : 羅先生                              


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