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公司介紹主營產(chǎn)品

在專業(yè)、敬業(yè)、拼搏的理念指導下，不斷進取學習，時刻關(guān)注域科學的發(fā)展和創(chuàng)新，北京眾星聯(lián)恒科技有限公司致力于引進的X射線產(chǎn)品、及新孵化*產(chǎn)品給中國的同步輻射，研究所，高校及制造業(yè)的客戶。

我司是德國INCOATEC公司、美國XOS（光學組件）、德國X-SPECTRUM、德國GREATEYES、德國Microworks、捷克ADVACAM、及英國MSI輝光放電質(zhì)譜儀的中國區(qū)總代理，產(chǎn)品線包含X射線源、X射線光學元件、X射線探測器、X射線系統(tǒng)、OPCPA飛秒激光器和輝光光放電質(zhì)譜儀等。我司同時致力于給客戶提供x射線解決方案，并于2016年推出了具有自主知識產(chǎn)權(quán)的桌面超快X射線診斷裝置，具有超微、超亮、高信噪比和高穩(wěn)定性的特點，在物質(zhì)超快過程研究、精細分辨成像等方面具有重要的應用價值。

我們堅持以客戶需求為導向，以專業(yè)、專注為根本，以高效服務為核心，緊密跟進學科的發(fā)展，努力從客戶處學習并豐富*自己的技術(shù)儲備，解決客戶的實際需求，以前沿技術(shù)驅(qū)動的創(chuàng)新獲取公司發(fā)展的空間，逐步成長為優(yōu)秀的X射線領域及的材料分析系統(tǒng)方案提供商。

我們敬畏知識不斷進步所帶來的變化和革新，堅信：高品質(zhì)的產(chǎn)品及優(yōu)質(zhì)的服務是獲得客戶認可的標準！

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產(chǎn)品簡介在線詢價

XUV高反射率鏡

XUV高反射率鏡產(chǎn)品詳情

公司介紹：

NTT-AT有著多年的X射線、極紫外光學配件的研發(fā)與銷售經(jīng)驗。在范圍內(nèi)，通過與眾多來自同步輻射科學，阿秒科學，高強度物理學等領域的科學研究者開展緊密合作，積累了大量*的設計與制造技術(shù)，其產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)享有很高的評價。NTT-AT提供的菲涅爾波帶片有著高分辨率，高聚光效率等特點，適合被各種輻射光設施使用。另外，分辨率測試卡被當作業(yè)界的標準。不只是學術(shù)研究，在X射線的檢查裝置開發(fā)現(xiàn)場也被廣泛使用。XUV鏡片，XUV濾波片不僅對阿秒科學有著幫助，對下一代的光刻研究也有這重要作用。NTT-AT將在XUV,EUV, X射線領域給予客戶在研發(fā)上的幫助。

產(chǎn)品介紹：

因為NTT-AT公司的多層反射鏡質(zhì)量高，所以一直被世界上的研究機構(gòu)所選用。本公司定制多層材料和結(jié)構(gòu)，滿足用戶的基板、峰值波長、帶寬和分散體等詳細規(guī)格。還應對耐高溫多層反射鏡。利用同步加速器設備的反射率評估服務也可作為選項提供。

XUV多層反射鏡（EUV多層反射鏡）

基板形狀：平面、凸形、凹形、拋物面、超環(huán)面、橢圓面
基板材料：石英、硅、zero dewer等
多層膜材料：Mo/Si（50eV至100eV）、Ru/Si（50eV至100eV）、Zr/Al（50eV至70eV）、SiC/Mg（25eV至50eV）、Cr/C（至300eV）等

基板尺寸：φ3毫米至φ300毫米（標準值為1英寸）

產(chǎn)品示例

Mo/Si多層反射鏡具有接近13納米（90電子伏）波長的高反射率。NTT-AT公司的Mo/Si多層反射鏡具有高達70％的正入射反射率。
NTT-AT公司的XUV反射鏡的材料、膜結(jié)構(gòu)和基板形狀可以定制以滿足用戶有關(guān)中心波長和光學裝置的需求。

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

Φ10毫米平面反射鏡

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

測量的Mo/Si多層的反射率
（正入射角：2度）

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

用于泵浦探測試驗的多層反射鏡

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

測量寬帶反射鏡、
窄帶反射鏡（波長：30納米）的反射率

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

EUV寬帶橢圓面反射鏡
（Φ100毫米zero dewer）

北京眾星聯(lián)恒科技有限公司

No	Design name	AOI	pol.	peak energy		reflectivit	bandwidth (FWHM)
1	HR-98-3.4	5 deg	s	98 eV	12.7 nm	67.7%	3.4 eV	(0.4 nm)
2	HR-95-3.8	5 deg	s	95 eV	13.1 nm	67.7%	3.8 eV	(0.5 nm)
3	HR-90-3.8	5 deg	s	90 eV	13.8 nm	68.0%	3.8 eV	(0.6 nm)
4	HR-85-4.0	5 deg	s	85 eV	14.6 nm	66.8%	4.0 eV	(0.7 nm)
5	HR-80-4.0	5 deg	s	80 eV	15.5 nm	63.3%	4.0 eV	(0.8 nm)
6	HR-75-4.6	5 deg	s	75 eV	16.5 nm	54.5%	4.6 eV	(1.0 nm)
7	HR-70-5.0	5 deg	s	70 eV	17.7 nm	47.5%	5 eV	(1.2 nm)
8	HR-70-2.6	5 deg	s	70 eV	17.7 nm	52.1%	2.6 eV	(0.7 nm)
9	HR-65-2.6	5 deg	s	65 eV	19.1 nm	48.5%	2.6 eV	(0.8 nm)
10	HR-60-2.8	5 deg	s	60 eV	20.7 nm	43.7%	2.8 eV	(1.0 nm)
11	HR-55-3.6	5 deg	s	55 eV	22.5 nm	37.3%	3.6 eV	(1.5 nm)
12	HR-50-4.2	5 deg	s	50 eV	24.8 nm	30.9%	4.2 eV	(2.1 nm)
13	HR-48-2.0	5 deg	s	48 eV	25.8 nm	50.6%	2.0 eV	(1.1 nm)
14	HR-45-2.4	5 deg	s	45 eV	27.6 nm	48.4%	2.4 eV	(1.4 nm)
15	HR-40-2.6	5 deg	s	40 eV	31.0 nm	44.8%	2.6 eV	(2.0 nm)
16	HR-35-2.6	5 deg	s	35 eV	35.4 nm	43.1%	2.6 eV	(2.6 nm)
17	HR-30-3.0	5 deg	s	30 eV	41.3 nm	41.2%	3.0 eV	(4.1 nm)
18	HR45-90-6.0	45 deg	s	90 eV	13.1 nm	66.1%	6.0 eV	(0.9 nm)
19	HR45-80-7.4	45 deg	s	80 eV	15.5 nm	60.0%	7.4 eV	(1.4 nm)
20	HR45-70-36.0	45 deg	s	70 eV	17.7 nm	49.0%	3.6 eV	(0.9 nm)
21	HR45-60-5.4	45 deg	s	60 eV	20.7 nm	40.8%	5.4 eV	(1.8 nm)
22	HR45-50-10.0	45 deg	s	50 eV	24.8 nm	30.0%	10.0 eV	(5.1 nm)
23	HR45-40-5.0	45 deg	s	40 eV	31.0 nm	44.4%	5.0 eV	(3.8 nm)
24	HR45-30-7.0	45 deg	s	30 eV	41.3 nm	42.5%	7.0 eV	(9.3 nm)

天文學
XUV光電子光譜
XUV顯微
EUV光刻
等離子體物理
阿秒科學

關(guān)鍵詞：標準

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