關(guān)鍵詞：單層膜、多層膜、半導(dǎo)體、光電子學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)電系統(tǒng)、MEMS、微流體技術(shù)、

                磁性膜、光學(xué)膜、金屬膜、絕緣膜、半導(dǎo)體膜、共濺射

                連續(xù)沉積、進(jìn)口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶

型號：MP500S，  產(chǎn)地：歐洲 ， 應(yīng)用：沉積AlN、Si3N4，TiN薄膜，抗腐蝕硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體膜，氧化物絕緣層等。

反應(yīng)磁控濺射鍍膜儀是微米納米器件制備的設(shè)備，可用于制備普通金屬薄膜，氮化鋁(AlN)壓電薄膜，Si3N4薄膜，TiN薄膜，抗腐蝕硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體薄膜，氧化物絕緣層等，適用于半導(dǎo)體，光電子學(xué)，光子學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）和微流體技術(shù)等領(lǐng)域。

MP500S 配置 如下：

腔體尺寸：內(nèi)徑500mm、高度400mm，電解拋光不銹鋼腔體

真空系統(tǒng)：采用1000l/s分子泵（可選擇低溫泵）+30m3/h機(jī)械泵

                  配備薄膜真空計(jì)、潘寧/皮拉尼真空計(jì)

磁控陰極：3個3英寸磁控陰極，

                  與樣品臺的距離手動可調(diào)（8-13cm）

                  每個陰極配備一個 圓柱形擋板，防止 污染

                  每個陰極配備一個電氣閥

                  每個陰極都可以是直流或射頻模式（可選）

陰極電源：一個300W 13.56MHz射頻電源（可以升級到2kW）

                  射頻轉(zhuǎn)換開關(guān)可用于濺射或襯底清洗

                  一個700W 直流電源

                  允許共濺射或順序?yàn)R射（可達(dá)6種材料）

反應(yīng)氣路：2條氣路（Ar和另外一條），每個氣路配備MFC

                                   采用5m³/h干泵抽氣

                                   配帶皮拉尼真空計(jì)

控制系統(tǒng)：全自動控制，半自動和手動模式可用

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