關(guān)鍵詞:鍍膜、金屬膜、Al, Ti, Cr, Ni, Cu, Au, Nb, W, Pd, Pt, Mo

可在導(dǎo)體或絕緣體上濺射任何薄膜
氣路:Ar氣路配搭MFC
陰極:3個4英寸直流磁控管,一個加強(qiáng)磁控管用于Ni,一個6英寸磁控源
靶材: Al, Ti, Cr, Ni, Cu, Au, Nb, W, Pd, Pt, Mo
直流電源:200mA-1A(1千瓦功率)
襯底偏置:等離子刻蝕,20-250W(RF )
樣品臺:可接納4個4英寸襯底,襯底可旋轉(zhuǎn)
真空泵:前級泵+低溫泵
全自動、半自動、手動模式
支持遠(yuǎn)程維護(hù)和操作
































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