關(guān)鍵詞：單層膜、多層膜、半導(dǎo)體、光電子學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)電系統(tǒng)、MEMS、微流體技術(shù)、

                磁性膜、光學(xué)膜、金屬膜、絕緣膜、半導(dǎo)體膜、共濺射

                             連續(xù)沉積、進(jìn)口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶

型號：MP600S，  產(chǎn)地：歐洲 ，   應(yīng)用：制備單層/多層金屬薄膜。

多靶反應(yīng)磁控濺射鍍膜儀是微米納米器件制備的設(shè)備，可用于制備單層/多層金屬薄膜等，適用于半導(dǎo)體，光電子學(xué)，光子學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）和微流體技術(shù)等領(lǐng)域。

反應(yīng)腔體：內(nèi)徑為600mm，高度300mm，采用電化學(xué)拋光不銹鋼

真空系統(tǒng)：采用1500 l/s低溫泵+15m³/h 干泵

                  采用薄膜真空計、潘寧/皮拉尼真空計

襯底尺寸：可加載4英寸襯底

                  采用電阻加熱可達(dá)500℃

                  采用K型熱電偶測溫

磁控陰極：四個6英寸磁控陰極，

                  與樣品臺的距離手動可調(diào)（7-15cm）

                  每個陰極配備一個 圓柱形擋板，防止 污染

                  每個陰極配備一個電氣閥

                  每個陰極都可以是直流或射頻模式

陰極電源：一個300W 13.56MHz射頻電源（可以升級到2kW）

                  射頻轉(zhuǎn)換開關(guān)可用于濺射或襯底清洗

                  一個2kW 直流電源

偏置電壓：10V-300V可調(diào)

反應(yīng)氣路：分別為Ar、N2、O2氣路，每個氣路配備MFC

Load Lock：采用Al合金腔體，手動樣品傳動臂。

                     采用主腔體干泵抽氣

控制系統(tǒng)：全自動控制，半自動和手動模式可用

若對我們的設(shè)備感興趣，歡迎聯(lián)系我們！