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LITHOSCALE 無掩模光刻機(jī) 曝光系統(tǒng)

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  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新時(shí)間2026-07-20
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 所在地區(qū)上海
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量100
  • 人氣值2952
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??岱美有限公司成立于1989年,是數(shù)據(jù)存儲(chǔ),半導(dǎo)體,光學(xué),光伏和航空航天行業(yè)制造商和創(chuàng)新研發(fā)機(jī)構(gòu)的*設(shè)備分銷商。??在21世紀(jì)初期,岱美已從我們在中國香港的總部擴(kuò)展到亞洲,以滿足客戶的多樣化需求。在當(dāng)今化的市場中,我們的客戶包括連接?xùn)|南亞各國的綜合供應(yīng)鏈,我們的專業(yè)人員隨時(shí)準(zhǔn)備與他們會(huì)面。??我們的總部設(shè)在中國香港,在中國大陸地區(qū)(北京和上海,以及廣東東莞)擁有*的業(yè)務(wù)。我們還在馬來西亞,新加坡,中國臺(tái)灣地區(qū),菲律賓和泰國等東南亞國 家和地區(qū)設(shè)有分支機(jī)構(gòu)。岱美擁有訓(xùn)練有素的工程師,能夠?yàn)楦鞯貐^(qū)用戶提供快捷、可靠的技術(shù)支持和維修服務(wù);為確保他們的專業(yè)知識(shí)得以更新及并適應(yīng)新的要求,岱美定期委派工程師前往海外接受專項(xiàng)技術(shù)訓(xùn)練,務(wù)求為顧客提供更高質(zhì)素的售后服務(wù)及技術(shù)支持。我們的分支機(jī)構(gòu)都已建立數(shù)十年,我們的許多客戶對我們與他們建立的長達(dá)數(shù)十年的合作關(guān)系感到滿意。??我們的目標(biāo)是建立持久的關(guān)系,滿足東南亞企業(yè)快速增長的需求。對于我們的客戶,我們不僅提供設(shè)備,還提供建議和技術(shù)指導(dǎo),以及時(shí)了解我們不斷發(fā)展的行業(yè)的發(fā)展。對于我們的供應(yīng)商,我們提供了深入的銷售網(wǎng)絡(luò)和數(shù)十年的東南亞復(fù)雜商業(yè)環(huán)境導(dǎo)航經(jīng)驗(yàn)。我們將本地客戶與來自歐洲,美國,日本和韓國的*設(shè)備與技術(shù)連接起來。岱美合作客戶??岱美在中國大陸地區(qū)主要銷售或提供技術(shù)支持的產(chǎn)品:??晶圓鍵合機(jī)、納米壓印設(shè)備、紫外光刻機(jī)、涂膠顯影機(jī)、硅片清洗機(jī)、超薄晶圓處理設(shè)備、光學(xué)三維輪廓儀、硅穿孔TSV量測、非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測量儀、薄膜厚度檢測儀、主動(dòng)及被動(dòng)式防震臺(tái)系統(tǒng)、應(yīng)力檢測儀、電容式位移傳感器等。??如有需要,請聯(lián)系我們,了解我們?nèi)绾伍_始與您之間的合作,實(shí)現(xiàn)您的企業(yè)或者組織機(jī)構(gòu)長期發(fā)展的目標(biāo)。注:在大陸地區(qū)注冊的公司名稱為:岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司,并有東莞分公司和北京辦事處。
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1.簡介LITHOSCALE無掩模光刻機(jī)系統(tǒng)是一個(gè)革命性的,高度靈活的無掩模光刻曝光平臺(tái)面向容納晶片可達(dá)300毫米的各種微細(xì)加工應(yīng)用
LITHOSCALE 無掩模光刻機(jī) 曝光系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

1. 簡介

LITHOSCALE 無掩模光刻機(jī)系統(tǒng)是一個(gè)革命性的,高度靈活的無掩模光刻曝光平臺(tái)面向容納晶片可達(dá)300毫米的各種微細(xì)加工應(yīng)用。

LITHOSCALE無掩模光刻曝光系統(tǒng)采用了EV Group的MLE™無掩模曝光技術(shù)通過結(jié)合*的數(shù)字處理功能來解決傳統(tǒng)瓶頸,該功能可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)傳輸和即時(shí)曝光,高結(jié)構(gòu)分辨率和吞吐量可伸縮性。它的無掩模曝光方法消除了與掩模相關(guān)的消耗品,而曝光系統(tǒng)及其可調(diào)諧固態(tài)激光源則具有高冗余度和較長的使用壽命穩(wěn)定性,并具有的自動(dòng)校準(zhǔn)功能,可蕞大程度地減少維護(hù)工作。*的實(shí)時(shí)數(shù)字處理功能可將設(shè)計(jì)文件立即暴露于基材,從而避免了每種數(shù)字掩模版圖的轉(zhuǎn)換時(shí)間。LITHOSCALE具有高分辨率(<2µm L / S),動(dòng)態(tài)裸片級(jí)可尋址整個(gè)基板表面的曝光,可實(shí)現(xiàn)靈活的無耗材處理和低成本(CoO)。LITHOSCALE系統(tǒng)利用具有可見和紅外功能的專用物鏡以及專有的卡盤設(shè)計(jì)集成了完整晶圓的頂部和背面對準(zhǔn),可容納蕞大300 mm的晶圓。該系統(tǒng)具有自動(dòng)對準(zhǔn)的動(dòng)態(tài)對準(zhǔn)模式,以適應(yīng)基板材料和表面變化。精細(xì)控制焦點(diǎn)水平位置的能力可保持側(cè)壁陡峭以及抗蝕劑的所需3D輪廓,同時(shí)防止邊緣打底和打底。大的工作距離和自動(dòng)自適應(yīng)對焦功能可確保整個(gè)曝光表面的圖案均勻性。它還具有個(gè)性化的裸片處理能力,而快速的全場定位和動(dòng)態(tài)對準(zhǔn)則可為各種尺寸和形狀的基板提供高度可擴(kuò)展性。

2. 特征

1) 晶圓/基板尺寸蕞大為300毫米/ 12英寸

2) 分辨能力<2 µm L / S

3) 配備具有膏端衍射極限光學(xué)元件的MLE技術(shù)

4) 375 nm和/或405 nm波長的曝光光譜;用戶可以定義為單一,寬帶或任何種類的波長混合

5) 定期監(jiān)控和自動(dòng)校準(zhǔn)的固態(tài)光源可確保其長期的穩(wěn)定性和高冗余度

6) *的對準(zhǔn)模式支持頂部和底部VIS和IR對準(zhǔn)功能

7) 聚焦控制深度(DoF)<24 µm

8) 自適應(yīng)自動(dòng)對焦控制(AF)<100 µm

9) 經(jīng)現(xiàn)場驗(yàn)證的高精度對準(zhǔn)平臺(tái),嵌入高科技機(jī)電和校準(zhǔn)傳感器,可確保整個(gè)系統(tǒng)的穩(wěn)定性

10) *的軟件功能包括:

動(dòng)態(tài)模具級(jí)注釋

*的失真補(bǔ)償

通過每個(gè)晶片的主機(jī)/靈活的掩模文件傳輸和配方執(zhí)行

布局轉(zhuǎn)換功能

備用格式文件支持:Gerber,ODB++,OASIS

11) 自動(dòng)非接觸式楔形補(bǔ)償程序

12) 可擴(kuò)展的解決方案,可在一個(gè)系統(tǒng)中滿足研發(fā)和大批量制造(HVM)的需求,而不會(huì)增加占地面積

13) 無耗材技術(shù)

MLE無掩模光刻技術(shù)

圖1 MLE 無掩模光刻曝光技術(shù)

3. 技術(shù)數(shù)據(jù)

1) 圖案的蕞小特征尺寸:CD:≤2 µm

2) 對齊方式:

頂部對齊:≤±0.5 µm

底部側(cè)面對準(zhǔn):≤±1.0 µm

紅外對準(zhǔn):≤±1.0 µm / 取決于基板材料

3) 曝光光譜(單,寬帶或任何種類的混合):375 + 405納米

4) 晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)300毫米

5) 楔形補(bǔ)償:非接觸式

6) 焦點(diǎn):

焦點(diǎn)深度[DoF]:24 µm

自動(dòng)對焦[AF]:100 µm

7) 動(dòng)態(tài)對齊方式[DAM]

全領(lǐng)域一致

多點(diǎn)對準(zhǔn)

8) *的LITHOSCALE功能

每個(gè)主機(jī)通過主機(jī)/靈活的數(shù)字掩模文件傳輸和配方執(zhí)行

動(dòng)態(tài)注釋功能

自動(dòng)對焦功能

*的失真功能

布局轉(zhuǎn)換功能

Gerber文件格式支持

ODB ++文件格式支持

OASIS文件格式支持

9) 工業(yè)自動(dòng)化功能

盒式磁帶

FOUP

SECS / GEM

10) 系統(tǒng)控制

作業(yè)系統(tǒng):Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 配方和參數(shù)

靈活的流程定義

簡易的拖放配方編程

并行處理多個(gè)作業(yè)

多語言用戶GUI和支持:CN,DE,FR,IT,JP,KR

實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問,診斷和故障排除

11) 智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能-Framework Software Platform

用于過程和機(jī)器控制的集成分析功能

并行任務(wù)/排隊(duì)任務(wù)處理功能

設(shè)備和過程性能根蹤功能

智能處理功能

發(fā)生和警報(bào)分析

智能維護(hù)管理和根蹤

MLE無掩模光刻技術(shù)

圖2 MLE無掩模光刻示意圖

關(guān)鍵詞:過程控制
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