磁控濺射系統(tǒng)MagSput™是下一代磁控濺射沉積系統(tǒng)，實(shí)用性腔,可擴(kuò)展性高,且高度可靠,非常適合磁控濺射鍍膜科學(xué)研究。
磁控濺射系統(tǒng)可定制。該腔室可設(shè)計(jì)為接受額外的蒸發(fā)源，未使用的端口用法蘭封閉，以便將來添加。
磁控濺射系統(tǒng)附加設(shè)備可以包括磁控管槍、熱阻源或電子束蒸發(fā)。
磁控濺射系統(tǒng)MagSput™是專為研發(fā)和原型生產(chǎn)而設(shè)計(jì)的柔性平面磁控濺射系統(tǒng)。該系統(tǒng)可用于開發(fā)各種應(yīng)用的沉積工藝，包括多層光學(xué)涂層、傳感器設(shè)備、太陽能電池、燃料電池、薄膜研究、超導(dǎo)體研究、ASIC、MEMs、磁性設(shè)備和生物醫(yī)學(xué)研究。
柔性平面磁控濺射
磁控濺射系統(tǒng)MagSput™易于重新配置，適用于需要不同系列沉積材料的應(yīng)用。該系統(tǒng)處理直徑達(dá)12英寸的晶片，并容納奇數(shù)尺寸的基板。此外，由于多槍能力，可以進(jìn)行共濺射、不破壞真空的順序?yàn)R射和反應(yīng)濺射（使用活性氣體混合物）。帶有特殊安裝的獨(dú)立火炮可進(jìn)行角度調(diào)整。
磁控濺射系統(tǒng)MagSput™采用基于Labview™的軟件,帶來了、用戶友好的計(jì)算機(jī)控制™ ,該軟件的自動(dòng)過程控制確保了更有效的沉積以及操作的簡(jiǎn)便性。手動(dòng)選項(xiàng)可輕松啟動(dòng)和故障排除。
磁控濺射系統(tǒng)規(guī)格參數(shù)
電拋光不銹鋼腔室（D形盒）
帶手動(dòng)快門的前門上的4“直徑觀察口
具有各種靶尺寸的單/多磁控管槍組件
所有光源的手動(dòng)快門組件
直流/射頻濺射沉積
匹配雙級(jí)旋轉(zhuǎn)葉片泵的渦輪分子真空泵系統(tǒng)
帶沉積控制器的石英晶體厚度傳感器
帶數(shù)字讀數(shù)的質(zhì)量流量控制器
帶顯示和讀數(shù)的全量程真空計(jì)
容易的目標(biāo)安裝
半自動(dòng)控制系統(tǒng)