遠(yuǎn)源等離子濺射系統(tǒng)不同與射頻磁控濺射系統(tǒng),它是通過(guò)靶材遠(yuǎn)處產(chǎn)生高密度等離子體完成濺射的。等離子體經(jīng)PLS出口的發(fā)射電磁線圈放大,并由匯聚線圈完成等離子方向的匯聚與控制,覆蓋靶材表面。靶面通過(guò)施加負(fù)偏壓,在表面形成高密度電流,靶材得到均勻的刻蝕,相對(duì)于常規(guī)磁控濺射,減少了靶中毒的現(xiàn)象,對(duì)非金屬薄膜提高了沉積速率。同時(shí)可在靶材上施加直流偏壓,用于濺射絕緣靶材。
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