優(yōu)點

操作簡單

● 無論您是在分析一個薄膜樣品、有機聚合物、一個大的塑料鏡片、不銹鋼刀片或焊錫球等，儀器所有的設(shè)置和設(shè)定都是相同的。操作者只需用鼠標(biāo)在樣品的光學(xué)圖像上單擊選擇一個或多個分析區(qū)域，打開儀器的雙光束中和系統(tǒng)和自動Z-軸高度調(diào)整功能，就可通過儀器軟件的自動隊列（Add Q）執(zhí)行所有分析。整個操作流程不需要任何的設(shè)定調(diào)整，不用因樣品成分不一致而有任何顧慮，甚至也不需要有操作員整天待在儀器旁邊，一切的操作都可自動完成。

圖1 - 全自動無人值守，分析無憂的XPS Quantera II

薄膜分析

● Quantera II 不僅提供了無機薄膜樣品良好的深度剖面分析性能，而且也可利用 C₆₀ 離子槍對有機薄膜得出非常的深度分析結(jié)果。

圖2 - (左) 以2 keV 氬離子濺射源對一個半導(dǎo)體封裝的錫球表面進行深度分析；

(右) 使用10 keV C₆₀離子源，對50/50 Rapamycin和PLGA的薄膜進行深度分析。

掃描 XPS探針

● PHI Quantera II 使用了聚焦掃描X射線源，使XPS微區(qū)分析變得更高效。如圖4所示，X射線源是經(jīng)由聚焦電子光柵掃描并撞擊在鋁陽極上所產(chǎn)生的，由此產(chǎn)生的聚焦鋁X射線會再透過橢球形狀的單色器反射在樣品表面上。當(dāng)電子束掃描在鋁陽極上時，所產(chǎn)生的X射線束在樣品上也會作出同步的掃描。X射線束的直徑大小可調(diào)范圍為 7.5 微米以下到 400 微米以上。

圖3 - (a) PHI 的聚焦掃描X射線源說明。(b) 使用Quantera II 對MRS-3標(biāo)樣所生的二次電子像，可見

以Quantera II 可以分析到約直徑為6微米區(qū)域的功能。

微區(qū)光譜

● 以下圖5中聚合物表面異物樣品為例。在光學(xué)顯微鏡下，透明的聚合物薄膜表面上未發(fā)現(xiàn)有任何污染物。而使用二次電子影像時就立即顯示了聚合物表面上污染物的存在。在短短幾分鐘內(nèi)，Quantera II 儀器就可利用一個直徑為 20 微米的X射線束對污染物成分進行分析，從而確定為氟碳污染物。

圖4 - Quantera II的污染分析。(a) 二次電子成像。(b) 多點采譜分析。(c) 碳 1s的圖譜。 (d) 元素分布圖（留意分布中右邊較小點的污染不含有氟或碳）。 (e) 對較小的污染做點分析，使用7.5微米的X射線束確定了第二污染物含有鋅的存在。

特點

● X射線探針 ≤ 5 微米的空間分辨率

● 高靈敏度的靜電檢測光學(xué)系統(tǒng)

● 雙束中和系統(tǒng)

● 自動化的樣品傳輸處理

● 儀器可容納樣品直徑為 100 毫米，高度為 25 毫米

● 兩個內(nèi)部樣品平臺暫停區(qū)

● 高性能的離子槍

● 高速的深度分析

● 元素態(tài)或化學(xué)態(tài)的XPS成像

● 自動角分辨分析

● PHI MultiPak 數(shù)據(jù)處理軟件

可選配件

● 樣品定位系統(tǒng) (SPS)

● 熱/冷樣品臺

● 冷樣品引入裝置

● 樣品傳輸管和外部測試站

● C₆₀ 離子槍

● Ar₂₅₀₀ GCIB 離子槍

應(yīng)用范圍

● 化學(xué)：化學(xué)涂料，聚合物，催化劑

● 材質(zhì)：金屬，薄膜，納米材料

● 電子：半導(dǎo)體，磁盤，微電子技術(shù)和顯示技術(shù)

● 生物醫(yī)學(xué)與生物醫(yī)學(xué)設(shè)備