- 設(shè)備特點(diǎn)
-
- 為曝光設(shè)備提供精密的溫濕度和超潔凈氣體,大幅提升良率
- 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)符合人機(jī)功能學(xué),耗材取換過(guò)程簡(jiǎn)便快捷
- 溫濕度和風(fēng)量調(diào)節(jié)范圍大,多種組合配方滿足復(fù)雜廠務(wù)需求
- 產(chǎn)品應(yīng)用
-
- 濕度控制精度≤±2%RH
- 溫度控制精度≤±1℃
- 適用領(lǐng)域主要用于面板廠、晶圓廠、封裝測(cè)試廠的曝光機(jī)鏡面防止霧化去除吸入曝光機(jī)中的酸、堿、VOC和微粒污染物

































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