- 設(shè)備特點(diǎn)
-
- 腔室設(shè)計模塊化,便于產(chǎn)能拓展
- 設(shè)備內(nèi)多重潔凈防護(hù),維護(hù)更換便捷
- 設(shè)備性能可靠穩(wěn)定,已在客戶處實(shí)現(xiàn)多年穩(wěn)定運(yùn)行
- 可實(shí)現(xiàn)氣氛隔離,兼容金屬濺射和化合物反應(yīng)濺射
- 可選自動化翻面配套,實(shí)現(xiàn)工件雙面鍍膜
- 技術(shù)指標(biāo)
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- 基材尺寸有效寬度1100/1500/1950/ 2200mm
- 膜厚均勻性±5%
- 靶材利用率平面陰極:≥30%,動平面陰極:≥60%,旋轉(zhuǎn)陰極:≥80%;
- 走速范圍30-1000mm/min






























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