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上海納騰儀器有限公司是一家專注于為微納米科學(xué)領(lǐng)域提供綜合性解決方案，為

全國各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供*的微納米科學(xué)儀器。

目前上海納騰已成為國內(nèi)少數(shù)幾家專業(yè)提供微納米科學(xué)儀器的企業(yè)，在微納加工儀器，微納表征儀器，微納儀器耗材，微納加工測試等相關(guān)領(lǐng)域，擁有一支經(jīng)驗豐富、技術(shù)過硬的團隊。能夠出色地完成售中、售后的服務(wù)。

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無掩膜激光直寫

無掩膜激光直寫產(chǎn)品詳情

μMLA是桌面式激光直寫的新技術(shù)，在科研微結(jié)構(gòu)的應(yīng)用領(lǐng)域中是一臺適合入門級的工具。μMLA具有靈活性和可定制性，可支持小至毫米大小范圍的樣品。

μMLA原理：

利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實施變劑量曝光，顯影后便在抗蝕層表面形成要求的圖形。

μMLA具有以下優(yōu)點：

? 分辨率高

? 無掩模光刻

? 靈活性與可定制性

? 可以設(shè)定多樣的實驗條件

主要功能

? 光柵掃描曝光

? 快速曝光復(fù)雜的圖形

? 灰度光刻

技術(shù)能力

? 基板尺寸：從5毫米到5英寸

? 特征尺寸：低至0.6 µm

? 寫入速度（4 µm分辨率）：200 mm 2 / min

? 實時自動對焦系統(tǒng)

? 正面對準

? 易于使用的操作軟件

? 2種可用的光學(xué)設(shè)置

? 曝光模塊選擇：光柵和/或矢量掃描

? 可變分辨率

? 繪畫模式

? 波長（光柵掃描）：390 nm或365 nm曝光波長

? 波長（矢量掃描）：405 nm和/或375 nm

? 廣角攝像機，用于對準和檢查

應(yīng)用

半導(dǎo)體芯片、微機電、微流體、微光學(xué)、掩模版及其他有微納米結(jié)構(gòu)需求的領(lǐng)域。

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