Desktop Pro以共焦結(jié)構(gòu)支持一個(gè)或兩個(gè)陰極,在4英寸直徑上提供高薄膜均勻性。其能夠在不到30分鐘的時(shí)間內(nèi)抽氣至高真空(10-6托范圍),這是需要快速轉(zhuǎn)換的多用戶環(huán)境中解決方案。

用途:
濺射 材料研究 產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量保證
半導(dǎo)體故障分析 納米技術(shù) 化合物半導(dǎo)體
優(yōu)勢:
這一直流和射頻濺射系統(tǒng)將提高您的研究生產(chǎn)力,提供一致、可重復(fù)的性能,同時(shí),可大幅節(jié)約測試環(huán)境的空間。

































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