功能特點(diǎn)：
真空爐CVD系統(tǒng)，混氣系統(tǒng)，真空及壓力系統(tǒng)等組成。此系統(tǒng)燒結(jié)溫度可達(dá)1200℃，通過(guò)滑動(dòng)爐體來(lái)實(shí)現(xiàn)快速的升降溫；配置不同的真空系統(tǒng)來(lái)達(dá)到理想的真空度；同時(shí)通過(guò)三路高精度質(zhì)量流量計(jì)控制不同氣體。
產(chǎn)品用途：
真空爐CVD系統(tǒng)高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備
產(chǎn)品參數(shù)

• 爐體結(jié)構(gòu)：雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫；真空吸附成型的優(yōu)質(zhì)高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保溫性能好
• 電源電壓：AC220V 50/60Hz；
• 功率：4KW
• 爐管材質(zhì)：高純石英管，高溫下化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng)，耐腐蝕，熱膨脹系數(shù)極小
• 爐管尺寸：Φ40/60/80/100*1200mm
• 加熱系統(tǒng)：加熱元件采用優(yōu)質(zhì)合金絲0Cr27Al7Mo2，表面負(fù)荷高、經(jīng)久耐用
• 加熱區(qū)長(zhǎng)度：440mm
• 恒溫區(qū)長(zhǎng)度：200mm
• 工作溫度：≤1150℃
• *高溫度：1200℃
• 升溫速率：10℃/min
• 溫控系統(tǒng)：溫度控制采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能30段升降溫程序
• 測(cè)溫元件：N型熱電偶
• 恒溫精度：±1℃
• 混氣系統(tǒng)：三路質(zhì)量流量計(jì)：數(shù)字顯示、氣體流量自動(dòng)控制
• 內(nèi)置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥
• 管路采用不銹鋼管，接口為Φ6卡套
• 每路氣體進(jìn)氣管路配有不銹鋼針閥
• 通過(guò)控制面板上的旋鈕來(lái)調(diào)節(jié)氣體流量
• 流量規(guī)格：0~1SLM
• 流量精度：±1.5%
• 真空系統(tǒng)：采用雙極旋片真空泵，真空度可達(dá)5x10-1 Torr
• 標(biāo)準(zhǔn)配件：數(shù)顯式真空壓力表；可選高真空系統(tǒng)及真空計(jì)，壓力控制系統(tǒng)等
• 可選配件：混氣系統(tǒng),中、高真空系統(tǒng)，各種剛玉、石英坩堝，石英管，計(jì)算機(jī)控制軟件，無(wú)紙記錄儀，氧含量分析儀。