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我公司是生產(chǎn)真空應(yīng)用設(shè)備的專業(yè)廠家，真空鍍膜設(shè)備是我公司主要產(chǎn)品之一，隨著薄膜應(yīng)用的普遍，真空鍍膜的需求量也越來(lái)越大

石墨烯生長(zhǎng)爐由管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)+水冷系統(tǒng)組成 ，*高溫度可以達(dá)到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等，極限真空可以達(dá)到10-3Pa，供氣系統(tǒng)是流...

混氣管式PECVD系統(tǒng)由單溫區(qū)管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)子流量計(jì)、射頻電源系統(tǒng)系統(tǒng)組成

RTP滑軌式快速退火爐主要應(yīng)用于院校實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，如：薄膜沉積，可在真空、不同氣氛、空氣不同環(huán)境下，對(duì)樣品進(jìn)行快速熱處理，不同材料快速退火、硅化、擴(kuò)散...

1200℃可傾斜式旋轉(zhuǎn)管式爐，為煅燒無(wú)機(jī)化合物獲得較好的*性而設(shè)計(jì)。用于無(wú)機(jī)化合物（礦粒和電池材料）的均勻燒結(jié)，該款管式爐是粉末冶金，陶瓷，耐火材料，鋰電正負(fù)極...

化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)由高溫管式爐，真空壓強(qiáng)控制系統(tǒng)，多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)，過(guò)壓保護(hù)及冷凝等部分組成，可實(shí)現(xiàn)真空達(dá)0.1mbar混合氣體化學(xué)氣相沉積...

真空爐CVD系統(tǒng)，混氣系統(tǒng)，真空及壓力系統(tǒng)等組成。此系統(tǒng)燒結(jié)溫度可達(dá)1200℃，通過(guò)滑動(dòng)爐體來(lái)實(shí)現(xiàn)快速的升降溫；配置不同的真空系統(tǒng)來(lái)達(dá)到理想的真空度；同時(shí)通過(guò)三...

牙科爐（烤*結(jié)晶爐）主要用于義齒加工廠完成二氧化鋯牙冠的結(jié)晶燒結(jié)，高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)與金屬退火。

氧化鋯燒結(jié)爐（義齒燒結(jié)爐）主要用于義齒加工廠完成二氧化鋯牙冠的結(jié)晶燒結(jié)，高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)與金屬退火。

1700度可升降式移動(dòng)鐘罩爐廣泛應(yīng)用于磁性材料，電子陶瓷材料，粉末冶金等產(chǎn)品的預(yù)燒和燒結(jié)，也可滿足特種材料在保護(hù)氣氛下的燒結(jié)。

1200度多晶陶瓷纖維箱式馬弗爐主要應(yīng)用于院校實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，供化學(xué)分析、物理測(cè)定以及金屬、陶瓷等的燒結(jié)和溶解，應(yīng)用于電子元件、粉末冶金、磁性材料等產(chǎn)品...

1700度箱式熱處理電阻爐主要應(yīng)用于高校實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)、科研單位、院校作元素分析測(cè)定和一般小型鋼件淬火、退火、回火等熱處理時(shí)加熱用，箱式高溫爐還可作金屬、陶瓷...

臥式真空高壓氣淬爐是我公司生產(chǎn)的真空熱處理設(shè)備，是當(dāng)今*熱處理設(shè)備的典型代表。產(chǎn)品用途：高、中和低合金鋼的淬火、退火和回火處理/高溫釬焊/滲碳和表面淬硬鋼的淬火...

1200℃隔熱屏真空釬焊爐真空系統(tǒng)用戶可選配擴(kuò)散泵機(jī)組：擴(kuò)散泵+旋片真空泵，分子泵機(jī)組：分子泵+旋片真空泵，也可根據(jù)用戶要求加羅茨泵。本機(jī)組不適宜抽除對(duì)金屬有腐...

1700度高溫真空燒結(jié)爐要應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空或氣氛條件下的熱處理工藝。

1200度小型高溫真空爐主要應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空或氣氛條件下的熱處理工藝。也用于冶金、機(jī)械、輕工、商檢、高等院校及科研部門、工礦企業(yè)電子陶...

1200度實(shí)驗(yàn)室坩堝爐（井式爐）主要用于高校、科研院所、工礦企業(yè)煅燒真空或惰性氣體中的高純度化合物，退火或擴(kuò)散半導(dǎo)體晶片，也可以用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料等，主要用...

1200度高溫箱式氣氛爐應(yīng)用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空或氣氛條件下的熱處理工藝。也用于冶金、機(jī)械、輕工、商檢、高等院校及科研部門、工礦企業(yè)電子陶瓷產(chǎn)...

1700度真空坩堝爐（側(cè)開式）主要用于高校、科研院所、工礦企業(yè)煅燒真空或惰性氣體中的高純度化合物，退火或擴(kuò)散半導(dǎo)體晶片，也可以用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料等，主要用于...

1200℃七溫區(qū)真空管式氣氛爐主要應(yīng)用于CVD實(shí)驗(yàn)，熒光粉制備，真空或氣氛燒結(jié)、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實(shí)驗(yàn)環(huán)境. 是各大材料實(shí)驗(yàn)室*的理想設(shè)備之一。