詳細(xì)摘要： 佳能KrF光刻機(jī)FPA-6300ESW采用248nmKRF曝光光源，分辨率130nm，專為12英寸晶圓設(shè)計(jì)
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青島佳鼎分析儀器有限公司
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詳細(xì)摘要： 佳能KrF光刻機(jī)FPA-6300ESW采用248nmKRF曝光光源，分辨率130nm，專為12英寸晶圓設(shè)計(jì)
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詳細(xì)摘要： FPA-3030i5+步進(jìn)器旨在滿足并超越物聯(lián)網(wǎng)和MEMS制造商的要求
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詳細(xì)摘要： FPA-3030i5a支持直徑為200毫米或更小的較小基板
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詳細(xì)摘要： FPA-3030iWa支持直徑為200毫米或更小的較小基板
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詳細(xì)摘要： 光學(xué)系統(tǒng)曝光時(shí)間調(diào)解器：0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)
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詳細(xì)摘要： 光學(xué)系統(tǒng)曝光時(shí)間調(diào)解器：0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)
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詳細(xì)摘要： FA系列全自動(dòng)正/雙面對(duì)準(zhǔn)（TSV/BSV）光刻機(jī)截止到2012年1月，ABM公司在世界范圍售出了500多臺(tái)光刻機(jī)，50多臺(tái)單獨(dú)曝光系統(tǒng)
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詳細(xì)摘要： FA系列全自動(dòng)正/雙面對(duì)準(zhǔn)（TSV/BSV）光刻機(jī)截止到2012年1月，ABM公司在世界范圍售出了500多臺(tái)光刻機(jī)，50多臺(tái)單獨(dú)曝光系統(tǒng)
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詳細(xì)摘要： ASML二手現(xiàn)貨ArF光刻機(jī)部分信息-193nm-軌道預(yù)警信號(hào)（APR）：APR啟用-避免跟蹤輸入/輸出沖突
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詳細(xì)摘要： ASML二手翻新現(xiàn)貨ArF光刻機(jī)AT:1100采用193nmArF曝光光源，針對(duì)于300mm晶圓處理的雙級(jí)光刻平臺(tái)
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詳細(xì)摘要： ASMLArF光刻機(jī)AT:1200作為其綜合成像設(shè)施的一部分，SUNYPoly擁有一臺(tái)TWINSCANAT:1200193nm“干式"掃描儀；（0.85NA）
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詳細(xì)摘要： ASML二手翻新現(xiàn)貨KrF光刻機(jī)AT:750是248nm深紫外系統(tǒng)
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詳細(xì)摘要： MIDAS二手光刻機(jī)MDA-4000由韓國(guó)邁斯達(dá)公司與2005年生產(chǎn)
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詳細(xì)摘要： PAS2000是一種全自動(dòng)晶圓步進(jìn)機(jī)，旨在以快速吞吐量和維持正常運(yùn)行時(shí)間為每個(gè)晶圓生產(chǎn)盡可能多的芯片，這些因素對(duì)于高效生產(chǎn)集成電路至關(guān)重要
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詳細(xì)摘要： ASML二手現(xiàn)貨i-line光刻機(jī)PAS2500/40適用于6英寸晶圓，采用365nm的i-line曝光光源
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詳細(xì)摘要： ASMLi-line光刻機(jī)PAS5000/40使用0.40NAi-line鏡頭，像場(chǎng)直徑為21.1mm
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詳細(xì)摘要： PAS5500/100Di線步進(jìn)設(shè)計(jì)用于0.4µm的大規(guī)模生產(chǎn)，在其可變數(shù)值孔徑(NA)保持功能性的同時(shí)實(shí)現(xiàn)的吞吐量
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詳細(xì)摘要： ASMLARF光刻機(jī)PAS5500/1100B支持8"/200mm工藝節(jié)點(diǎn)
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詳細(xì)摘要： PAS5500/1150C193nm步進(jìn)掃描系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)成本效益的90nmArF批量生產(chǎn)
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詳細(xì)摘要： ASML推出了一種用于0.35微米成像的新型i-line光刻系統(tǒng)，旨在幫助客戶從0.5微米以上的制造技術(shù)過(guò)渡到更嚴(yán)格的分辨率
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2023-04-15 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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