詳細摘要： XT:1250i是ASML發(fā)布的TWINSCANXT:1250的浸入式版本
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-14 在線留言
青島佳鼎分析儀器有限公司
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詳細摘要： XT:1250i是ASML發(fā)布的TWINSCANXT:1250的浸入式版本
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詳細摘要： 隨著TWINSCANXT：1400Ei的發(fā)布，使用ArF浸入式光刻生產(chǎn)65nm體積現(xiàn)在成為現(xiàn)實
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詳細摘要： ASMLHoldingNV(ASML)于2006年末推出了其的TWINSCAN系統(tǒng)，這是一種*的193納米(nm)曝光系統(tǒng)，具有成像、覆蓋和吞吐量改進的特點
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詳細摘要： TWINSCANXT:1900GiStep-and-Scan系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級浸沒式光刻工具，專為45納米及以下分辨率的300毫米晶圓批量生產(chǎn)而設(shè)計
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詳細摘要： TWINSCANXT:400G365nm步進掃描系統(tǒng)是一種超高生產(chǎn)率的雙級光刻工具，專為350nm分辨率的300mm晶圓批量生產(chǎn)而設(shè)計
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詳細摘要： TWINSCANXT:450G365-nm步進式掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級光刻工具，設(shè)計用于批量生產(chǎn)分辨率低至220-nm及以上的關(guān)鍵i-line應(yīng)用
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詳細摘要： ASML二手翻新DUV光刻機生產(chǎn)于2006年，可針對于300mm尺寸的晶圓進行處理
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詳細摘要： 尼康的這款i-line光刻機NSR2205i12D是歡迎的光刻系統(tǒng)之一
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詳細摘要： 佳能canon二手i-line光刻機FPA-5500IZ+，350nm，可對12英寸晶圓進行光刻工藝加工
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-10 在線留言
詳細摘要： ASML二手ARF光刻機AT1150，193nm，拆卸以及包裝已經(jīng)完成，隨時可以發(fā)貨
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-09 在線留言
詳細摘要： 佳能二手i-line光刻機CANONFPA3000I4參數(shù)：Magnification5XResolution0
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-04-08 在線留言
詳細摘要： ASML二手KrF曝光機，光刻機現(xiàn)貨由青島佳鼎分析儀器有限公司提供，除此之外，我們的技術(shù)團隊還支隊對光刻機的技術(shù)改造和方案對接
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-05-27 在線留言
詳細摘要： Nikon分步投影光刻機NSR-S204B，用于集成電路生產(chǎn)過程中的微光刻工藝，通過投影成像方式，把掩模版上集成電路圖形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重復(fù)...
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詳細摘要： TWINSCANNXT:1970Ci步進掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級浸沒式光刻工具，專為在成熟節(jié)點批量生產(chǎn)300毫米晶圓而設(shè)計
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-05-27 在線留言
詳細摘要： 這些i-line步進器具有與尼康DUV掃描儀相同的縮小率和視場大小，是曝光次臨界層的理想選擇，這些層大約占設(shè)備20層或更多層的一半
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-05-27 在線留言
詳細摘要： ASML 步進式掃描DUV光刻機 ArF曝光機 NXT1970Ci/1980Di
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詳細摘要： i線步進式光刻機NSR-SF155適用于廣泛的半導(dǎo)體器件的制造
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-05-27 在線留言
詳細摘要： 2001年12月5日，ASML推出了款具有110nm分辨率的KrF(248nm)StepScan300mm雙級光刻系統(tǒng)
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詳細摘要： 支持多重曝光、實現(xiàn)了超高精度與高產(chǎn)出的ArF液浸式掃描光刻機ArF液浸式掃描光刻機NSR-S622DArF液浸式掃描光刻機NSR-S622D專為20nm以下制程...
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-05-27 在線留言
詳細摘要： PAS5500/750FDUV步進掃描系統(tǒng)使用成熟的248nmKrF技術(shù)，可以實現(xiàn)130nm的大規(guī)模生產(chǎn)
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-05-27 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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