詳細摘要： 尼康NikonArF掃描光刻機NSR-S322F裝載了在液浸式裝置中取得優(yōu)秀業(yè)績的StreamlignPlatform，同時進一步提高了重合精度與生產(chǎn)效率
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-05-27 在線留言
青島佳鼎分析儀器有限公司
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詳細摘要： 尼康NikonArF掃描光刻機NSR-S322F裝載了在液浸式裝置中取得優(yōu)秀業(yè)績的StreamlignPlatform，同時進一步提高了重合精度與生產(chǎn)效率
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詳細摘要： 佳能半導體光刻設備，高分辨率/高生產(chǎn)率KrF掃描儀FPA-6300ES6a二手翻新現(xiàn)貨優(yōu)勢特點：FPA-6300ES6a掃描儀提供高生產(chǎn)力通過使用新設計的Ret...
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詳細摘要： 佳能半導體光刻設備-步進式光刻機FPA-3030EX6，專用于物聯(lián)網(wǎng)設備的KrF光刻機，分辨率達到150nm，可用電腦進行遠程操控
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詳細摘要： 佳能i線步進式光刻機FPA-5550iZ2生產(chǎn)效率高，重疊精度高，能夠快速完成晶圓的測量和校準，減少了晶圓處理的時間
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詳細摘要： 二手現(xiàn)貨佳能光刻機FPA-5510iX，可在50mmx50mm的大曝光場上提供0.5um的分辨率在單次曝光中曝光大視野的能力為FPA-5510iX提供了很大的優(yōu)...
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詳細摘要： 佳能二手翻新光刻機FPA-5520iV，用于高級封裝的i-line步進器，具有支持高分辨率和大曝光場的可選陣容，現(xiàn)貨支持
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詳細摘要： 二手翻新佳能i線步進式光刻機FPA-8000iW處理515*510mm的大型面板基板，可實現(xiàn)大封裝PLP生產(chǎn)，同時具備1.0μm的分辨率，高效靈活
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詳細摘要： 現(xiàn)有二手尼康Nikon翻新現(xiàn)貨光刻機NSR-1755i7一臺，價格大約$650,000左右，針對4寸/6寸晶圓，分辨率0.6umumLS
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詳細摘要： 光刻機NSR-2005I8A用于集成電路生產(chǎn)中的微光刻工藝
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詳細摘要： NIKONNSRG8A步進式光刻機用于半導體功率器件制造工藝中的光刻工序，即將圖形投影到涂有光刻膠的硅片上的裝置，由此使得所需圖形區(qū)域的光刻膠曝光
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詳細摘要： 德國suss公司的ma8光刻機，兼容4、6、8英寸wafer，Led光源，3個獨立波長(g、h、i)，可自定義
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詳細摘要： 尼康Nikoni-line（365nm波長）光刻機NSR-4425i，解析度≤700nm，視場大小44*44mm，對準精度≤100nm
產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2022-05-26 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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